[发明专利]一种胶体研磨均质设备

权利要求书

1.一种胶体研磨均质设备，包括壳体（1），其特征在于：所述壳体（1）的外侧面中部安装有控制开关（2），所述壳体（1）的上表面外侧安装有减速电机（3），所述减速电机（3）的输出轴上固定有主动齿轮（301），所述减速电机（3）的输入端与控制开关（2）的输出端相连，所述控制开关（2）的输入端与外部电源的输出端相连，所述壳体（1）上表面中部的安装孔内设有轴座（4），所述轴座（4）内转动连接有转轴（5），所述转轴（5）的上端面转动连接有旋转接头（10），所述转轴（5）的上端外侧面固定有与主动齿轮（301）相啮合的从动齿轮（11），所述壳体（1）的内侧面中部固定有隔板（7），所述隔板（7）上侧的壳体（1）内侧面安装有第一研磨装置（6），所述隔板（7）下侧的壳体（1）内侧面安装有第二研磨装置（9），所述转轴（5）包括进料管（501），所述进料管（501）的下端侧面设有喷料口（5011），所述进料管（501）的下端固定有连接柱（502），所述连接柱（502）的侧面固定有搅拌辊（12），所述连接柱（502）的下端设有下料器（503），所述下料器（503）的下端连接有分离管（504），所述分离管（504）的中部安装有分离器（8），所述下料器（503）为椎体壳，所述下料器（503）的侧面设有下料口（5031），且下料器（503）与分离管（504）相通，所述分离器（8）设在隔板（7）下侧的分离管（504）中部，所述分离器（8）为与分离管（504）相通的圆柱体壳，所述分离器（8）的侧面均匀的分布有泄压阀（801），所述分离器（8）的内腔中部通过支杆固定有挡板（802），所述壳体（1）的内侧面下端设有层板（13），所述层板（13）与壳体（1）下表面之间安装有超声波发生器（14），所述超声波发生器（14）的输入端与控制开关（2）的输出端相连，所述第一研磨装置（6）包括固定在壳体（1）内侧面的固定盘（601），所述固定盘（601）上侧的壳体（1）内侧面设有连接盘（602），所述连接盘（602）内转动连接有转动盘（603），所述转动盘（603）的内环面与转轴（5）固定连接。

2.根据权利要求1所述的一种胶体研磨均质设备，其特征在于：所述层板（13）上侧的壳体（1）侧面安装有出料管（101），所述出料管（101）的中部安装有出料阀（102）。

3.根据权利要求1所述的一种胶体研磨均质设备，其特征在于：所述固定板（601）的外侧边缘设有出料口（6011），所述转动盘（603）的内侧部分设有进料口（6031），所述固定盘（601）与转动盘（603）的接触面上均分布有磨齿。

4.根据权利要求1所述的一种胶体研磨均质设备，其特征在于：所述第二研磨装置（9）包括固定在壳体（1）内侧面的固定板（901），所述固定板（901）的中部通孔上焊接有支撑筒（902），所述支撑筒（902）的外侧套接有与支撑筒（902）转动连接的磨轮（903），所述磨轮（903）通过连接柱（9031）与分离器（8）固定相连。

5.根据权利要求4所述的一种胶体研磨均质设备，其特征在于：所述固定板（901）的上表面边缘固定有与磨轮（903）配套的环形磨床（904），所述固定板（901）的上表面内侧均匀的分布有漏料口（905）。