[发明专利]一种多版并列光刻的排版系统有效
申请号: | 201811229365.6 | 申请日: | 2018-10-22 |
公开(公告)号: | CN109270803B | 公开(公告)日: | 2020-08-11 |
发明(设计)人: | 陈莹;常敏;孟庆涛;邢国军 | 申请(专利权)人: | 上海理工大学 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海天协和诚知识产权代理事务所 31216 | 代理人: | 张轶 |
地址: | 200093 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 并列 光刻 排版系统 | ||
本发明公开了一种多版并列光刻的排版系统,该系统包括:阵列光源,所述阵列光源设置在竖直板上;排版装置,所述排版装置包括排架、安装在所属排架上的与所述阵列光源一一对应的反射单元,所述反射单元中设置有反射镜、开闭装置,所述排架上连接有滑轨,所述滑轨中设置有用来滑动所述排架的驱动机构,所述反射单元在竖直高度上错开排放,使得每个所述反射单元能够得到对应所述阵列光源的照射;若干光学图像缩小装置,所述光学图像缩小装置排放在所述滑轨的移动方向的下方;若干待印刷板;以及控制器。本发明的有益效果为提高生产效率,且排版变化影响小,足以满足个性化生产。
技术领域
本发明属于光刻领域,具体涉及一种多版并列光刻的排版系统。
背景技术
光刻技术是指在光照作用下,借助光致抗蚀剂(又名光刻胶)将掩膜版上的图形转移到基片上的技术。其主要过程为:首先紫外光通过掩膜版照射到附有一层光刻胶薄膜的基片表面,引起曝光区域的光刻胶发生化学反应;再通过显影技术溶解去除曝光区域或未曝光区域的光刻胶(前者称正性光刻胶,后者称负性光刻胶),使掩膜版上的图形被复制到光刻胶薄膜上;最后利用刻蚀技术将图形转移到基片上。
传统的光刻技术只能应对大批量生产,个性化生产的成本是巨大的。
发明内容
针对现有技术中存在的问题,本发明提供一种多版并列光刻的排版系统,本发明能够通过一组光源以及一组排版装置实现多版并列光刻,高效率,且排版变化影响小,足以满足个性化生产。
为实现上述目的,本发明采用以下技术方案:
一种多版并列光刻的排版系统,该系统包括:
阵列光源,所述阵列光源设置在竖直板上;
排版装置,所述排版装置包括排架、安装在所属排架上的与所述阵列光源一一对应的反射单元,所述反射单元中设置有反射镜、开闭装置,所述排架上连接有滑轨,所述滑轨中设置有用来滑动所述排架的驱动机构,所述反射单元在竖直高度上错开排放,使得每个所述反射单元能够得到对应所述阵列光源的照射;
若干光学图像缩小装置,所述光学图像缩小装置排放在所述滑轨的移动方向的下方,所述光学图像缩小装置包括接收端、输出端,所述接收端用来接收所述排版装置的反射光;
若干待印刷板,所述待印刷板与所述光学图像缩小装置一一对应,所述待印刷板与所述输出端相对设置,所述待印刷板的上表面设置有能被所述阵列光源中光线分解的胶剂;以及
控制器,所述控制器与所述驱动机构、所述开闭装置电连接;
其中,
所述阵列光源中的光线经过所述反射镜照射向所述接收端形成光路径,所述开闭装置用来切断或者连通所述光路径。
所述系统还包括机械臂,用来取送所述待印刷板。
所述系统还包括定位装置,用来定位所述待印刷板。
所述定位装置上设有感应器,所述感应器与所述控制器电连接。
所述反射镜的反面设置有连接架,所述连接架上连接有撞击件,所述连接架中铰接设置有固定杆,所述固定杆上套设有固定弹簧,所述固定弹簧的一端固定连接在所述固定杆上,所述固定弹簧的另一端固定连接在所述连接架上。
所述开闭装置包括电动气缸、防干涉壳,所述固定杆固定在所述防干涉壳的内侧壁上,所述防干涉壳上设有用来接收所述阵列光源中光线的光线入口以及朝向所述接收端的光线出口,所述防干涉壳的内部竖直设置有滑槽,所述滑槽中设置有推板,所述推板的一侧与所述电动气缸的移动部固定连接,所述撞击件设置在所述推板的滑动路径上。
所述滑槽的底端高于所述连接架,所述防干涉壳的底部设置有限位板;
其中,
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