[发明专利]玻璃再生处理方法、再生玻璃基板及使用其的光掩模坯料和光掩模有效
| 申请号： | 201811229615.6 | 申请日： | 2013-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN109298594B | 公开（公告）日： | 2021-12-24 |
| 发明（设计）人： | 木下一树;二岛悟;青木阳祐;板仓敬二郎 | 申请（专利权）人： | 大日本印刷株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/60 | 分类号： | G03F1/60;B09B5/00;C03C15/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 玻璃 再生 处理 方法 使用 光掩模 坯料 | ||
【权利要求书】：
1.一种光掩模用玻璃基板，其是对在玻璃基板的至少一面以金属薄膜形成图案而成的光掩模进行再生处理后的玻璃基板，其特征在于，
在所述玻璃基板上，作为光掩模所形成的金属薄膜被蚀刻液溶解去除，
并对该玻璃基板进行湿式润湿性均匀化处理直至在呼气像检查中不出现所述图案，
所述蚀刻液为硝酸铈铵、高氯酸或硝酸。
2.根据权利要求1所述的光掩模用玻璃基板，其特征在于，重复进行所述湿式润湿性均匀化处理和所述呼气像检查。
3.根据权利要求1或2所述的光掩模用玻璃基板，其特征在于，其通过所述湿式润湿性均匀化处理使光掩模用玻璃基板表面的润湿性被均匀化。
4.根据权利要求1或2所述的光掩模用玻璃基板，其特征在于，所述湿式润湿性均匀化处理是采用碱性水溶液所进行的处理。
5.根据权利要求4所述的光掩模用玻璃基板，其特征在于，所述碱性水溶液的碱成分为氢氧化钾。
6.根据权利要求1或2所述的光掩模用玻璃基板，其特征在于，在进行了再生处理的所述光掩模用玻璃基板的表面，水的接触角之差为1度以下。
7.一种光掩模用坯料，其特征在于，其使用了权利要求1或2所述的光掩模用玻璃基板。
8.一种光掩模，其特征在于，其使用了权利要求7所述的光掩模用坯料。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
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