[发明专利]热浸镀制备超薄锂带的方法、系统及超薄锂带在审
申请号: | 201811229988.3 | 申请日: | 2018-10-22 |
公开(公告)号: | CN109161831A | 公开(公告)日: | 2019-01-08 |
发明(设计)人: | 周临风;邹崴;刘强;李娇;曹乃珍 | 申请(专利权)人: | 天齐锂业(江苏)有限公司 |
主分类号: | C23C2/04 | 分类号: | C23C2/04;C23C2/26;C23C2/40 |
代理公司: | 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 | 代理人: | 叶蕙;王锋 |
地址: | 215600 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 超薄锂带 热浸镀 基底 制备 除油 粗化 基带 助镀 卷对卷生产 表面形成 厚度均匀 金属锂层 连续传送 施加压力 预热处理 后处理 轧辊 结合力 金属锂 浸润性 锂带 锂液 能耗 | ||
本发明公开了一种热浸镀制备超薄锂带的方法,包括:依次对基底进行除油、粗化、助镀处理,之后在保护性气氛中以金属锂液对基底进行热浸镀处理,再对表面形成有金属锂层的基底进行后处理,获得超薄锂带。相较现有技术,本发明的热浸镀制备超薄锂带的方法,在基带连续传送过程中先进行除油、粗化、助镀及预热处理,增强基带与锂液浸润性,再进行热浸镀,最终通过轧辊施加压力,制得厚度均匀,结合力好的锂带。实现高质量超薄锂带的连续性卷对卷生产,工艺简单可靠,同时具有能耗和成本上的优势。
技术领域
本发明涉及制备锂带的方法,尤其涉及一种热浸镀制备超薄锂带的方法、系统及超薄锂带。
背景技术
金属锂带具有很高的能量密度,其应用前景良好。然而,当前其主要制备方式为机械滚压法,由于锂韧性及设备精度的限制,通过该方法很难制得厚度低于30μm的超薄锂带,同时,其能耗成本较高。
目前,有个别关于热浸镀锂制锂带的报道,但他们的基带均未作任何前处理,直接进行热浸镀,基带与锂液浸润性差,往往需要压力辅助设备。
例如,CN107641782A提出热浸镀制备锂带的方法,但就具体工艺而言,其使用的是旋涂法,不利于大规模连续化生产。
目前,通过热浸镀制备锂带,工艺浸润性差,设备能耗高。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种热浸镀制备超薄锂带的方法、系统及超薄锂带,以克服现有技术中的不足。
为实现前述发明目的,本发明采用的技术方案包括:
本发明实施例提供了一种热浸镀制备超薄锂带的方法,包括:
依次对基底进行除油、粗化、助镀处理,之后在保护性气氛中以金属锂液对基底进行热浸镀处理,再对表面形成有金属锂层的基底进行后处理,获得超薄锂带。
本发明实施例还提供了一种热浸镀制备超薄锂带的系统,应用于前述的热浸镀制备超薄锂带的方法中,所述的系统包括用于依次对基底进行除油、粗化、助镀处理的除油单元、粗化单元、助镀单元;还包括:
热浸镀单元,其用于提供金属锂液对基底进行热浸镀处理,从而于基底表面形成金属锂层;以及
后处理单元,其包括轧辊,所述轧辊用于对表面形成金属锂层的基底进行轧制,从而形成超薄锂带;
所述热浸镀单元和后处理单元被置于一保护性气氛中。
本发明实施例还提供了一种超薄锂带,由前述方法制备而成。
与现有技术相比,本发明的优点至少在于:
本发明实施例提供的热浸镀制备超薄锂带的方法,在基带连续传送过程中先进行除油、粗化、助镀及预热处理,增强基带与锂液浸润性,然后再进行热浸镀,最终通过轧辊施加压力,制得厚度均匀,结合力好的锂带。由此实现高质量超薄锂带的连续性卷对卷生产,工艺简单可靠,同时具有能耗和成本上的优势。
附图说明
图1是本发明实施例一中热浸镀制备的超薄锂带的断面示意图;
图2是本发明实施例一中热浸镀制备超薄锂带的工艺流程图;
图3是本发明实施例一中热浸镀制备超薄锂带系统的示意图。
具体实施方式
鉴于现有技术中的不足,本案发明人经长期研究和大量实践,得以提出本发明的技术方案。如下将对该技术方案、其实施过程及原理等作进一步的解释说明。
本发明实施例提供了一种热浸镀制备超薄锂带的方法,包括:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天齐锂业(江苏)有限公司,未经天齐锂业(江苏)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811229988.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种可调的铜包钢线双工位镀锡装置
- 下一篇:一种自动角钢镀锌机
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C2-00 用熔融态覆层材料且不影响形状的热浸镀工艺;其所用的设备
C23C2-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域上镀覆
C23C2-04 .以覆层材料为特征的
C23C2-14 .过量熔融覆层的除去;覆层厚度的控制或调节
C23C2-26 .后处理
C23C2-30 .熔剂或融态槽液上的覆盖物