[发明专利]化学水浴镀膜装置

说明书

本发明是关于一种化学水浴镀膜装置。该装置包括：反应槽，包括固定结构，固定结构用于固定放置于反应槽内的待镀膜衬板；馈入单元，设置在反应槽的槽内，与放置于反应槽内的待镀膜衬板平行，馈入单元内部中空，用于缓存加热后的反应液；馈入单元的第一侧面有喷射口，第一侧面为朝向待镀膜衬板的面，其中，第一侧面在待镀膜衬板的待镀膜面上的正投影的面积至少占待镀膜面面积的预设比值；加热器，位于反应槽外，通过导管与馈入单元连通，使加热后的反应液注入馈入单元。该技术方案可以提升反应槽内反应液的浓度和温度的均匀性，避免由于反应槽的底部与上部的反应液的浓度、温度相差较大，所造成的在待镀膜衬板上沉积的薄膜的厚度不均匀的问题。

技术领域

本发明涉及表面工程技术领域，尤其涉及一种化学水浴镀膜装置。

背景技术

在铜铟镓硒薄膜太阳能电池的多层薄膜结构中，硫化镉薄膜作为缓冲层对电池的光电转换效率的提升具有重要影响。

在硫化镉薄膜的制备技术中，化学水浴沉积技术被广泛使用，采用化学水浴沉积技术的衬板立式镀膜方法是一种常用的硫化镉薄膜制备方法，多用于制备大尺寸的铜铟镓硒薄膜太阳能电池所需的硫化镉薄膜，且生产效率高。在相关技术中，衬板立式镀膜方法中所采用的化学水浴镀膜装置在衬板上沉积硫化镉薄膜时，由外部加热器加热的反应液从安装在反应槽底部的馈入管的上喷射口持续不断地馈入反应槽，如此，为所属反应槽内的立式衬板镀膜。然而，此种反应液的馈入方式会造成槽底的反应液的温度和浓度高于顶部，致使在衬板同一表面的上、下部所沉积的硫化镉薄膜的厚度严重不一致，从而增大了对硫化镉薄膜厚度、硫化镉薄膜的整体均匀程度、反应液浓度的控制难度，并减少了反应液的使用次数，增加了硫化镉薄膜的制备成本。

发明内容

为了提高衬板上沉积的硫化镉薄膜的均匀程度，本发明实施例提供一种化学水浴镀膜装置。该技术方案如下：

根据本发明实施例的第一方面，提供一种化学水浴镀膜装置，包括：

反应槽，包括固定结构，所述固定结构用于固定放置于所述反应槽内的待镀膜衬板；

馈入单元，设置在所述反应槽的槽内，与放置于所述反应槽内的所述待镀膜衬板平行，所述馈入单元内部中空，用于缓存加热后的反应液；所述馈入单元的第一侧面有喷射口，所述第一侧面为朝向所述待镀膜衬板的面，其中，所述第一侧面在所述待镀膜衬板的待镀膜面上的正投影的面积至少占所述待镀膜面面积的预设比值；

加热器，位于所述反应槽外部，通过导管与所述馈入单元连通，使加热后的反应液注入所述馈入单元。

在一个实施例中，所述馈入单元还包括至少两个注液口和第二侧面；所述第二侧面与所述第一侧面相邻，包括两个相对的侧面，或者包括四个侧面；所述至少两个注液口设置于所述两个相对的侧面，或者设置于所述四个侧面。

在一个实施例中，所述第二侧面中的每一个侧面上设置有N个注液口，所述N为大于等于1的整数；在所述N为奇数时，所述N个注液口中的一个注液口位于所述侧面的中间位置，(N-1)/2个注液口位于所述一个注液口的一侧，剩余(N-1)/2个注液口位于所述一个注液口的另一侧；在所述N为偶数时，N/2个注液口位于所述侧面的半侧，剩余N/2个注液口位于所述侧面的另半侧。

在一个实施例中，所述还包括M个调压泵，所述M为大于等于1的整数，所述M个调压泵通过所述导管分别连接所述馈入单元上的各注液口和所述加热器，用于从所述加热器内抽取反应液后通过所述馈入单元上的各注液口注入所述馈入单元。

在一个实施例中，所述预设比值等于二分之一。

在一个实施例中，所述第一侧面包括两个侧面；所述两个侧面以相同的预设密度均匀设置喷射口。

在一个实施例中，所述喷射口的侧壁设置有螺纹。

在一个实施例中，所述反应槽上设置有通孔，所述导管通过所述通孔与所述反应槽固定连接。