[发明专利]基因测序反应小室

权利要求书

1.一种基因测序反应小室，其特征在于：包括弹性透明盖样片、刚性透明载样片以及刚性透明的抗压片，所述盖样片夹设在所述载样片和所述抗压片之间；

所述盖样片上表面设置有试剂入口和试剂出口，所述盖样片的下表面设置有第二反应凹槽，所述试剂入口和试剂出口分别贯通所述第二反应凹槽的两端；

所述载样片和盖样片的下表面通过范德华力粘合，以将第二反应凹槽封闭成反应通道；

所述抗压片和盖样片的上表面通过范德华力粘合，所述抗压片对应试剂入口和试剂出口设置有入口通孔和出口通孔。

2.根据权利要求1所述的基因测序反应小室，其特征在于：所述盖样片为硅胶片，载样片为玻璃片。

3.根据权利要求1所述的基因测序反应小室，其特征在于：所述抗压片和盖样片形状相同，且面积小于载样片的面积。

4.根据权利要求1所述的基因测序反应小室，其特征在于：所述第二反应凹槽的数量为两个，每个第二反应凹槽的两端对应设置有贯通盖样片上表面的试剂入口和试剂出口。

5.根据权利要求1所述的基因测序反应小室，其特征在于：所述第二反应凹槽的两端还分别设置有圆形凹腔，且圆形凹腔分别与所述的试剂入口和试剂出口相连通，所述的圆形凹腔内设置有多个朝向所述载样片的凸柱，相邻的凸柱之间具有预设间隙。

6.根据权利要求5所述的基因测序反应小室，其特征在于：所述的多个凸柱呈环状的设置在圆形凹腔内。

7.根据权利要求5所述的基因测序反应小室，其特征在于：所述第二反应凹槽两端邻近圆形凹腔设置有凸块，所述凸块的宽度小于第二反应凹槽的宽度。

8.根据权利要求7所述的基因测序反应小室，其特征在于：所述凸块具有一上平面，所述盖样片的下表面贴合在载样片上时，所述的上平面即贴合在载样片的上表面，或者所述的上平面与载样片的上表面之间预留有间隙。

9.根据权利要求1所述的基因测序反应小室，其特征在于：进一步包括金属缓冲层和陶瓷加热片，所述金属缓冲层夹在所述加热片和所述载样片之间。

10.根据权利要求1所述的基因测序反应小室，其特征在于：进一步包括用于弹性接触基因测序反应小室载样片上表面的温度感测装置，以及对称设置的压力平衡装置，所述温度感测装置和压力平衡装置对称设置在第二反应凹槽两侧。

11.根据权利要求1所述的基因测序反应小室，其特征在于：进一步包括固定座、转动架、接头以及压紧座，所述基因测序反应小室安装在固定座上通过转动架及压紧座固定，所述接头弹性地安装至所述转动架上。