[发明专利]供给系统在审
申请号: | 201811235764.3 | 申请日: | 2018-10-23 |
公开(公告)号: | CN111090220A | 公开(公告)日: | 2020-05-01 |
发明(设计)人: | 郑义强 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
主分类号: | G03F7/16 | 分类号: | G03F7/16;H01L21/67 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 230601 安徽省合肥市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 供给 系统 | ||
本发明提供一种供给系统,包括:供应装置,用于提供液体;喷嘴;供液管路,一端与供应装置相连接,另一端与喷嘴相连接;第一液体流量计,位于供液管路与喷嘴相连接的一端处;排液管路,一端与供液管路相连通;第二液体流量计,位于排液管路上。本发明的供给系统通过在喷嘴附近的供液管路上设置第一液体流量计,并在排液管路上设置第二液体流量计,可以实时监测喷涂到晶圆上的光刻胶的量及排液管路排出的光刻胶的量,可以及时了解供给系统是否出现故障,可以避免光刻胶的浪费损耗,从而节约生产成本。
技术领域
本发明属于集成电路技术领域,特别是涉及一种供给系统。
背景技术
在现有的光刻胶供给系统中,在使用喷嘴向晶圆表面喷涂光刻胶的同时,还需要在光刻胶达到喷嘴之前使用排液管路将供液管路内光刻胶中的气泡及杂质即使排出,以防止气泡及杂质被喷涂到晶圆表面而形成缺陷。在光刻胶喷涂过程中,光刻胶的使用量包括喷涂到晶圆表面的光刻胶的量以及排出气泡及杂质时排出的光刻胶的量。
然而,现有的光刻胶供给系统并不能对光刻胶的使用量进行实时监测,这在光刻胶系统出现故障时很容易造成光刻胶的浪费损耗,从而导致生产成本的增加。
发明内容
鉴于以上所述现有技术的缺点,本发明的目的在于提供一种供给系统,用于解决现有技术中的光刻胶供给系统无法对光刻胶的使用量进行实时监测,从而导致光刻胶浪费损耗,进而导致生产成本增加的问题。
为实现上述目的及其他相关目的,本发明提供一种供给系统,所述供给系统包括:
供应装置,用于提供液体;
喷嘴;
供液管路,一端与所述供应装置相连接,另一端与所述喷嘴相连接;
第一液体流量计,位于所述供液管路与所述喷嘴相连接的一端处;
排液管路,一端与所述供液管路相连通;及
第二液体流量计,位于所述排液管路上。
作为本发明的一种优选方案,所述供应装置包括光刻胶供给瓶,所述液体包括光刻胶。
作为本发明的一种优选方案,所述供给系统包括:
缓冲罐,位于所述供液管路上,且位于所述供应装置与所述喷嘴之间;
过滤器,位于所述供液管路上,且位于所述缓冲罐与所述喷嘴之间;
第一捕集阱,位于所述排液管路上,且位于所述过滤器与所述喷嘴之间;及
第二捕集阱,位于所述排液管路上,且位于所述第一捕集阱与所述喷嘴之间;
所述排液管路包括:
第一排液管路,一端经由所述缓冲罐与所述供液管路相连通;
第二排液管路,一端经由所述过滤器与所述供液管路相连通;
第三排液管路,一端经由所述第一捕集阱与所述供液管路相连通;
第四排液管路,一端与所述第一排液管路远离所述缓冲罐的一端、所述第二排液管路远离所述过滤器的一端及所述第三排液管路远离所述第一捕集阱的一端相连接;及
第五排液管路,一端经由所述第二捕集阱与所述供液管路相连通;
所述第二液体流量计的数量为两个,其中一所述第二液体流量计位于所述第四排液管路上,另一所述第二液体流量计位于所述第五排液管路上;
所述第一液体流量计位于所述第二捕集阱与所述喷嘴之间。
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