[发明专利]半导体器件和制造方法在审

专利信息
申请号: 201811235977.6 申请日: 2018-10-23
公开(公告)号: CN109698180A 公开(公告)日: 2019-04-30
发明(设计)人: 亚当·R·布朗;里卡多·L·杨多克 申请(专利权)人: 安世有限公司
主分类号: H01L23/495 分类号: H01L23/495;H01L25/07;H01L21/50;H01L21/60
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 顾丽波;李荣胜
地址: 荷兰*** 国省代码: 荷兰;NL
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体裸片 半导体器件 裸片 主表面 接触连接 载体连接 电连接 制造 延伸
【说明书】:

本公开涉及一种半导体器件和制造半导体器件的方法。该半导体器件包括:布置在相应的第一载体和第二载体上的第一半导体裸片和第二半导体裸片,第一半导体裸片和第二半导体裸片各自包括布置在相应半导体裸片的顶部主表面上的第一接触和第二接触以及布置在相应半导体裸片的底部主表面上的第三接触;第一裸片连接部分和第二裸片连接部分,布置在相应的第一载体和第二载体上,所述第一载体和第二载体连接到相应的第一半导体裸片和第二半导体裸片的第三接触;以及第一接触连接构件,从第一半导体裸片的第一接触延伸到第二载体的裸片连接部分,第一半导体裸片的第一接触与第二半导体裸片的第三接触电连接。

技术领域

本公开涉及一种半导体器件和制造方法。具体地,本公开涉及一种半导体器件封装件和制造方法,其包括至少两个半导体裸片。

背景技术

与两个单独的半导体器件相比,将两个半导体裸片集成到单个封装好的半导体器件中可以显著减小器件占用面积。半导体裸片可以是例如以半桥配置布置的晶体管。

例如在晶体管是场效应晶体管的情况下,在半桥配置中,必须使用外部连接件将第一MOSFET的源极连接到第二场效应晶体管的漏极,所述外部连接件通常设置在附接有晶体管的载体或印刷电路板上。该连接件可以产生感应回路,这可以减慢器件的切换。

布置在半桥中的两个单独的晶体管器件可以占用宝贵的电路板空间,并且从源极到漏极的连接件也可以引起大的感应回路并且可以减慢器件的切换。

发明内容

根据实施例,提供一种半导体器件,包括:第一半导体裸片和第二半导体裸片,其布置在相应的第一载体和第二载体上,所述第一半导体裸片和第二半导体裸片分别包括布置在相应的所述半导体裸片的顶部主表面上的第一接触和第二接触以及布置在相应的所述半导体裸片的底部主表面上的第三接触;第一裸片连接部分和第二裸片连接部分,其布置在相应的所述第一载体和第二载体上,所述第一载体和第二载体连接到相应的所述第一半导体裸片和第二半导体裸片的所述第三接触;以及第一接触连接构件,其从所述第一半导体裸片的所述第一接触延伸到第二载体的所述裸片连接部分,使得所述第一半导体裸片的所述第一接触电连接到所述第二半导体裸片的所述第三接触。

根据实施例,所述第一接触连接构件可以从所述第一半导体裸片的所述第一接触延伸,以形成所述半导体器件的外部引线。所述第一接触连接构件可以与所述半导体器件的外部引线一体形成。

可选地,第三连接构件可以从所述第二半导体裸片的所述第一接触延伸,以形成半导体器件的相应的外部引线。

可选地,至少一个连接部分可以从所述第一载体和第二载体中的每一个延伸,以形成所述半导体器件的相应的外部引线。

根据实施例,所述第一接触连接构件可以是引线夹,所述引线夹包括:第一部分,其用于连接至所述第一半导体裸片的所述第一接触;第二部分,其用于连接至第二载体的所述裸片连接部分;以及导电部分,其将所述第一部分和所述第二部分连接。所述导电部分可以相对于所述第一部分和所述第二部分升高。

根据实施例,所述第一半导体裸片和所述第二半导体裸片可以被布置为半桥电路。所述第一半导体裸片和所述第二半导体裸片可以是场效应晶体管,并且所述第一接触可以是源极接触;所述第二接触可以是栅极接触;以及所述第三接触可以是漏极接触。所述第一半导体裸片可以是高侧场效应晶体管,并且所述第二半导体裸片可以是低侧场效应晶体管。

根据实施例,所述第三接触连接构件可以是分叉的。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安世有限公司,未经安世有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811235977.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top