[发明专利]一种磷化铟晶圆片及其外延晶圆片的衬底抛光模具在审
| 申请号： | 201811240107.8 | 申请日： | 2018-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN109397070A | 公开（公告）日： | 2019-03-01 |
| 发明（设计）人： | 于一榛;孙夺;曹高奇;邓双燕;杨波;邵秀梅;李雪;龚海梅 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海技术物理研究所 |
| 主分类号： | B24B37/30 | 分类号： | B24B37/30 |
| 代理公司： | 上海沪慧律师事务所 31311 | 代理人： | 郭英 |
| 地址： | 200083 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 晶圆片 抛光模具 陶瓷基板 沟道 陶瓷 磷化铟 模具 衬底抛光 高平整度 工艺成本 抛光过程 支撑作用 自转稳定 抛光垫 配重块 抛光 衬底 应用 | ||
【权利要求书】：
1.一种磷化铟晶圆片及其外延晶圆片的衬底抛光模具，包括陶瓷基板(1)、陶瓷沟道(1-1)、配重块(2)，其特征在于：
待抛光的样品黏贴在陶瓷基板(1)中央，陶瓷基板(1)上有2～6组陶瓷沟道(1-1)，均布于样品四周；每组陶瓷沟道(1-1)由3-10条凸起结构组成；在抛光时，模具倒扣在抛光垫上，配重块(2)置于陶瓷基板(1)上。
2.根据权利要求1所述的一种磷化铟晶圆片及其外延晶圆片的衬底抛光模具，其特征在于：所述的陶瓷沟道(1-1)凸起结构的顶部高出陶瓷基板(1)表面100～1000微米，陶瓷沟道(1-1)的槽深为0.1～0.5cm。
3.根据权利要求1所述的一种磷化铟晶圆片及其外延晶圆片的衬底抛光模具，其特征在于：所述的配重块(2)施加的单位面积重量，以陶瓷沟道(1-1)和样品的总面积计算，其范围在50～500g/cm2。
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