[发明专利]一种指纹Coating层高精度LOGO制作方法及装置在审
申请号: | 201811242021.9 | 申请日: | 2018-10-24 |
公开(公告)号: | CN109216217A | 公开(公告)日: | 2019-01-15 |
发明(设计)人: | 刘国安;郑国清 | 申请(专利权)人: | 江西合力泰科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/56 | 分类号: | H01L21/56;H01L21/68;H01L23/544;G09F7/16 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 汤东凤 |
地址: | 343700 *** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 靶标 分粒 指纹 制作 分块 下夹具 偏位 丝印 装夹 备用 激光切割机 工艺步骤 喷涂保护 分区线 涂底漆 大板 单粒 对位 固化 切割 分区 检查 | ||
一种指纹涂层高精度LOGO制作方法,其包括以下工艺步骤:制作一大板IC封装,大板IC封装依据要求分块;将分块的IC封装装夹进行涂底漆、中漆;下夹具进行LOGO丝印;将丝印固化LOGO后的分块IC封装再装夹进行喷涂保护层面漆;下夹具后用激光切割机进行分粒切割成单粒带LOGO的指纹IC;A‑Mark分区靶标有两个,位于分区线处;制作C‑Mark分粒靶标,每区C‑Mark分粒靶标有多个;制作S‑Mark备用分粒靶标,每区S‑Mark备用分粒靶标有多个。本发明的制作方法使在单粒指纹上的LOGO到边缘的距离均匀,便于对位检查,相较于常规LOGO偏位在0.25mm以内,按该套设计偏位在0.15mm以内。
技术领域
本发明涉及用于带LOGO指纹Coating的制作领域,尤其涉及一种指纹Coating层高精度LOGO制作方法及装置。
背景技术
现有指纹产品Coating多数是单一颜色,但随着指纹产品越来越成熟,对外观要求也变得多样化起来。先后多家手机品牌厂商要求,在指纹上除配套整机颜色外还需印上该品牌的LOGO,来增加手机的竞争力。一个品牌的LOGO相当于一张名片,手机厂商对LOGO的要求相对也会比较高。其中最重要的一项尺寸,LOGO到边缘的距离要均匀,否则就会很难看,严重影响手机品牌形像。
发明内容
本发明的目的是克服现有技术中存在的不足,提供一种指纹Coating层高精度LOGO制作方法及装置;本发明所要解决的技术问题:本发明主要解决如何在单粒指纹上的LOGO到边缘的距离均匀;因大板IC封装的所有MARK标都在基材层上,而IC封装后要Coating/喷涂的层面比基材层要高出0.65mm以上,封装均是灰黑材的EMC材质,使得在整面喷涂颜色后再印LOGO很难找到对位检查是否偏位,只能印一块就用设备测试一块,严重影响生产操作,本发明不但解决了这一难点,还提供了一套如何实现Coating层高精度LOGO制作工艺。
为了实现上述目的,本发明采用的技术方案为:
一种指纹涂层高精度LOGO制作方法,其包括以下工艺步骤:
(1)制作一大板IC封装,大板IC封装依据要求分块;
(2)将分块的IC封装装夹进行涂底漆、中漆;
(3)下夹具进行LOGO丝印;
(4)将丝印固化LOGO后的分块IC封装再装夹进行喷涂保护层面漆;
(5)下夹具后用激光切割机进行分粒切割成单粒带LOGO的指纹IC。
进一步地,其中步骤(1)中IC封装制作工艺具体为:
a.在来料大板上制作多个定位通孔,该定位通孔用于丝印时定位用及单粒IC切割定位用;
b.以大板中心轴作为分区线,每个大板设为A区与B区两个分区,设计成可以分块,并一分两或一分多后对位标及产品重叠后是一致的;
c.从A区和B区的左上角开始对每个单粒PKG封装进行排号,X向依次为1,2,3,4,5,6,7,8,9,A,B,C,D,Y向依次为1,2,3,4,5,6,7,8,9,A,B,C,D,通过排版角码来区分单粒IC在大板上的唯一位置标识;
d.制作A-Mark分区靶标,A-Mark分区靶标有两个,位于分区线处;
e.制作C-Mark分粒靶标,每区C-Mark分粒靶标有多个;
f.制作S-Mark备用分粒靶标,每区S-Mark备用分粒靶标有多个;
g.制作测试PAD焊盘,每区PAD焊盘有多个。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造