[发明专利]一种淡化光刻图案边缘痕迹的方法有效
申请号: | 201811242387.6 | 申请日: | 2018-10-24 |
公开(公告)号: | CN109270787B | 公开(公告)日: | 2022-06-10 |
发明(设计)人: | 孙代东 | 申请(专利权)人: | 青岛嘉泽包装有限公司 |
主分类号: | G03F1/42 | 分类号: | G03F1/42;G03F7/20 |
代理公司: | 青岛海知誉知识产权代理事务所(普通合伙) 37290 | 代理人: | 张晓琳 |
地址: | 266107 *** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 淡化 光刻 图案 边缘 痕迹 方法 | ||
1.一种淡化光刻图案边缘痕迹的方法,其特征在于:包括以下步骤:
按照与印刷图案1:1的比例确定光刻专版定位纸上光刻图案的外形大小;
将光刻图案向外扩边X1,扩边X1的大小由光刻专版定位纸预估的变形量的大小确定;
在扩边X1的基础上再次扩边X2,再次扩边的距离X2是为后期做边缘淡化时预留的处理距离;
对预留的扩边X2进行渐变处理;
对渐变部分进行栅格化处理,使光刻图案分解成一个主图案加上若干个边缘碎片图案组成;对栅格化处理后的光刻图案进行光刻,形成母版,再在母版表面利用化学方法喷镀上一层银表面,使表面的感光层导电,然后将母版置于电铸槽内,将银表面作为阴极在其上面铸上一层镍,然后将镍层与母版分离,清洗掉表面的残余感光层,即形成了含有光刻图案信息的金属镍母版,使用这一块金属镍母版铸出更多的复制母版,使用复制母版在组版机上根据设计的版面位置拼制成定位专版,利用热膜压原理制成塑料全息母版,重复上述电铸过程获得最终可上模压机使用的模压工作版;采用模压工作版按工艺流程模压出定位膜,进而制造出专版定位纸;所述的X2等于X1。
2.根据权利要求1所述的一种淡化光刻图案边缘痕迹的方法,其特征在于:所述渐变处理,设置内部100%渐变到外部0%。
3.根据权利要求1所述的一种淡化光刻图案边缘痕迹的方法,其特征在于:所述栅格化处理,采用调幅加网方式,并选用圆形网点。
4.根据权利要求3所述的一种淡化光刻图案边缘痕迹的方法,其特征在于:所述加网线数根据光刻机的光刻分辨率进行选择。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
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G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备