[发明专利]氧化铝膜制备装置有效
申请号: | 201811244283.9 | 申请日: | 2018-10-24 |
公开(公告)号: | CN109023301B | 公开(公告)日: | 2023-10-13 |
发明(设计)人: | 陈五奎;刘强;徐文州;陈磊;庞坤 | 申请(专利权)人: | 乐山新天源太阳能科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/40 | 分类号: | C23C16/40;C23C16/448;C23C16/455 |
代理公司: | 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 | 代理人: | 李玉兴 |
地址: | 614000 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氧化铝 制备 装置 | ||
1.氧化铝膜制备装置,包括设置有炉门(1)的真空沉积室(2),真空沉积室(2)内设有石墨舟(3),硅片放置于石墨舟(3)上,真空沉积室(2)上设有进气口(4)与排气口(5),所述真空沉积室(2)内设置有进气主管(6)和排气主管(7),所述进气主管(6)水平设置在石墨舟(3)上方,所述进气主管(6)与进气口(4)连通,所述进气口(4)上连接有用于通入制程气体的进气装置(8),所述排气主管(7)水平设置在石墨舟(3)下方,所述排气主管(7)与排气口(5)连通,所述排气口(5)上连接有真空泵(9),真空泵(9)的进口与排气口(5)连通,真空泵(9)的出口连接有尾排管(10),其特征在于:所述进气装置(8)包括一氧化二氮导气管(801)、氩气导气管(802)、三甲基铝导液管(803),所述一氧化二氮导气管(801)末端与进气口(4)连通,所述一氧化二氮导气管(801)上设置有一氧化二氮气体流量计(804),所述三甲基铝导液管(803)的末端连接有蒸发器(805),所述三甲基铝导液管(803)上设置有三甲基铝液体流量计(806),所述氩气导气管(802)与蒸发器(805)连通,所述氩气导气管(802)上设置有氩气气体流量计(807),所述蒸发器(805)的出口与进气口(4)连通。
2.如权利要求1所述的氧化铝膜制备装置,其特征在于:所述进气装置(8)与进气口(4)之间设置有气体混合装置(11),所述气体混合装置(11)包括一级气体混合装置(11)和二级气体混合装置(11),所述一级气体混合装置(11)包括锥形筒体(1101)、汇流管(1102)以及密闭的柱状壳体(1103),所述柱状壳体(1103)的左端面中心开设有导气孔(1104),所述导气孔(1104)分别与蒸发器(805)的出口、一氧化二氮导气管(801)连通,所述柱状壳体(1103)内设置有圆形的固定板(1105),所述固定板(1105)的一侧表面正对导气孔(1104),且导气孔(1104)的中心对准固定板(1105)的中心,所述固定板(1105)朝向导气孔(1104)的一侧表面设置有扰流板(1106),所述扰流板(1106)与固定板(1105)表面的夹角小于九十度,且扰流板(1106)向导气孔(1104)方向倾斜,所述扰流板(1106)表面开设有多个通气孔(1107),所述锥形筒体(1101)的大径端固定在柱状壳体(1103)的右端面上且锥形筒体(1101)的大径端与柱状壳体(1103)内部连通,所述锥形筒体(1101)的小径端与汇流管(1102)的左端固定相连且二者互相连通,所述汇流管(1102)的右端连接有二级气体混合装置(11),所述二级气体混合装置(11)包括气体压缩机(1108),所述气体压缩机(1108)的进口与汇流管(1102)的右端连通,所述气体压缩机(1108)的出口连接有气体喷嘴(1109),所述气体喷嘴(1109)上连接有锥形的降压管(1110),所述降压管(1110)的小径端与气体喷嘴(1109)相连,所述降压管(1110)的大径端与进气口(4)连通。
3.如权利要求2所述的氧化铝膜制备装置,其特征在于:所述气体混合装置(11)与进气口(4)之间设置有预热装置(12),所述预热装置(12)包括保温箱体(1201),所述保温箱体(1201)内设置有换热管(1202),所述换热管(1202)的左端伸出保温箱体(1201)并且与降压管(1110)的大径端连通,所述换热管(1202)的右端伸出保温箱体(1201)与进气口(4)连通,所述保温箱体(1201)的右端连接有导气管A(1203),所述导气管A(1203)的末端与真空泵(9)的出口连通,所述保温箱体(1201)的左端连接有导气管B(1204),所述导气管B(1204)的末端与尾排管(10)的入口连通。
4.如权利要求3所述的氧化铝膜制备装置,其特征在于:所述换热管(1202)为盘管。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的