[发明专利]一种研磨液供给系统及化学机械研磨液的供给方法在审
| 申请号： | 201811245993.3 | 申请日： | 2018-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN109352531A | 公开（公告）日： | 2019-02-19 |
| 发明（设计）人： | 杨钰;李虎 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | B24B57/02 | 分类号： | B24B57/02 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 脉冲 研磨液 供液 结晶沉淀 等粒子 刮伤 化学机械研磨液 研磨液供给系统 机台 减小 粒子 静止 有效地减少 表面颗粒 长期空闲 目标机台 物化性质 研磨 成品率 调和液 脉冲器 易结晶 有效地 冲刷 去除 冲击力 | ||
1.一种研磨液供给系统，用于在半导体制造设备中的化学机械研磨，其特征在于，包括原液循环系统、调和液自循环系统、第一研磨液管路、第二研磨液管路以及机台；
所述原液循环系统与所述调和液自循环系统之间通过所述第一研磨液管路连通；
所述调和液自循环系统与所述机台通过所述第二研磨液管路连通；
所述第二研磨液管路中设置有一脉冲器用于脉冲供液。
2.如权利要求1所述的一种研磨液供给系统，其特征在于，所述调和液自循环系统包括第一调和桶、第二调和桶、调和液管路以及第一动力装置；
所述第一调和桶的流入口和所述第二调和桶的流入口均与所述第一研磨液管路连通；
所述调和液管路的一端同时与所述第一调和桶的流出口和第二调和桶的流出口连通，所述调和液管路的另一端同时与所述第一调和桶的流入口和所述第二调和桶的流入口连通，所述调和液管路同时还与所述第二研磨液管路连通；
所述第一动力装置设置于所述调和液管路上并用于驱动所述调和液管路内的液体的流动。
3.如权利要求2所述的一种研磨液供给系统，其特征在于，所述调和液管路上开设有第一接口，所述第二研磨液管路的一端与所述第一接口连通，所述第二研磨液管路的另一端用于与机台连通。
4.如权利要求3所述的一种研磨液供给系统，其特征在于，所述第一动力装置为磁力循环泵。
5.如权利要求3所述的一种研磨液供给系统，其特征在于，所述调和液管路上还连接一热传导器件，所述热传导器件设置于所述调和液管路的一端与所述第一接口之间。
6.如权利要求5所述的一种研磨液供给系统，其特征在于，所述机台设置有一回流端，所述调和液管路上在所述第一接口与所述调和液管路的另一端之间还开设有第二接口，所述回流端与所述第二接口通过一回流液管路连通。
7.如权利要求6所述的一种研磨液供给系统，其特征在于，所述调和液管路还包括一循环过滤装置，所述循环过滤装置设置于所述第二接口与所述调和液管路的另一端之间。
8.如权利要求1所述的一种研磨液供给系统，其特征在于，所述原液循环系统还包括原液桶、原液管路以及第二动力装置；
所述原液管路的一端与所述原液桶的出口连通，所述原液管路的另一端与所述原液桶的入口连通，所述第二动力装置设置于所述原液管路上并用于驱动所述原液管路中的液体的流动，所述原液管路与所述第一研磨液管路连通。
9.如权利要求8所述的一种研磨液供给系统，其特征在于，所述第二动力装置为磁力循环泵。
10.一种化学机械研磨液的供给方法，其特征在于，包括如下步骤：
S1:在机台跑货前，设置脉冲器的工作时间；
S2:利用脉冲器进行脉冲供液；
S3:脉冲器工作到设定的时间后停止工作。
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