[发明专利]光电显示材料中残留溶剂的检测方法有效

专利信息
申请号: 201811248087.9 申请日: 2018-10-24
公开(公告)号: CN111089911B 公开(公告)日: 2022-09-27
发明(设计)人: 刘文婷;孙艳雪;宋晓龙 申请(专利权)人: 江苏和成显示科技有限公司
主分类号: G01N30/02 分类号: G01N30/02
代理公司: 北京坦路来专利代理有限公司 11652 代理人: 汪送来
地址: 212212 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光电 显示 材料 残留 溶剂 检测 方法
【权利要求书】:

1.一种光电显示材料中残留溶剂的检测方法,所述检测方法采用静态顶空气相色谱-质谱法进行检测,包括以下步骤:

1)将各残留溶剂的标准品用检测用溶剂配制成预定浓度的溶液作为对照品溶液,采用静态顶空气相色谱-质谱法进行检测,获取色谱图和各残留溶剂标准品峰对应的质谱图;

2)将光电显示材料用检测用溶剂配制成预定浓度的溶液作为待测样品溶液,采用静态顶空气相色谱-质谱法进行检测,获取色谱图和光电显示材料中所含各残留溶剂峰对应的质谱图;

所述残留溶剂包括选自丙酮、二氯甲烷、甲苯、正己烷、正庚烷中的一种或多种;

所述检测方法用于小分子液晶、液晶聚合物或OLED材料中残留溶剂的检测;

所述检测用溶剂为N-甲基吡咯烷酮;

其中,

顶空条件中,样品平衡温度为80℃-120℃;平衡时间为15-60min;填充压力为10-20psi;定量环温度为90-130℃;传输线温度为100-140℃;

气相色谱条件中,固定相为苯基-甲基聚硅氧烷,进样口温度为280-310℃;分流比为5:1至20:1;载气为He或H2;载气压力为5-15psi;柱箱温度为30℃-320℃;升温程序为:初始温度30-80℃,保持0-15分钟后,以1-20℃/min升到50-150℃,保持0-15分钟后,以5-50℃/min升到280-320℃保持1-20分钟;

质谱条件中:MSD传输线为260-300℃;离子源为220-240℃;四极杆为140-160℃;溶剂延迟0-0.5分钟;EMV模式为增益因子;增益因子为1.00;选择离子(SIM)扫描。

2.根据权利要求1所述的光电显示材料中残留溶剂的检测方法,其中所述检测方法用于对光电显示材料中所含残留溶剂进行定量检测,所述检测方法包括以下步骤:

1)将各残留溶剂的标准品与内标物按预定的质量比,用检测用溶剂配制成预定浓度的溶液作为对照品溶液,采用静态顶空气相色谱-质谱法进行检测,求出相对校正因子;

2)将内标物与光电显示材料按预定的质量比,用检测用溶剂配制成预定浓度的溶液作为待测样品溶液,用静态顶空气相色谱-质谱法测定进行检测,求出残留溶剂的含量。

3.根据权利要求2所述的光电显示材料中残留溶剂的检测方法,所述相对校正因子由以下公式计算求得,

其中As和Ar分别为内标物和标准品的峰面积,ms和mr分别为加入的内标物和标准品的质量,f为相对校准因子;

光电显示材料中残留溶剂的质量mi由以下公式计算求得,

其中Ai和As分别为残留溶剂和内标物的峰面积,ms为内标物的质量。

4.根据权利要求2-3任一项所述的光电显示材料中残留溶剂的检测方法,其中所述内标物选自氯苯、对二甲苯。

5.根据权利要求2-3任一项所述的光电显示材料中残留溶剂的检测方法,其中所述对照品溶液中各残留溶剂标准品的浓度为50-500ppm,内标物的浓度为50-500ppm。

6.根据权利要求5所述的光电显示材料中残留溶剂的检测方法,其中所述对照品溶液中各残留溶剂标准品的浓度为100ppm。

7.根据权利要求5所述的光电显示材料中残留溶剂的检测方法,其中所述对照品溶液中内标物的浓度为200ppm。

8.根据权利要求2-3任一项所述的光电显示材料中残留溶剂的检测方法,先将内标物溶于检测用溶剂中配成内标物溶液。

9.根据权利要求8所述的光电显示材料中残留溶剂的检测方法,所述内标物溶液中所述内标物的含量为50-500ppm。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏和成显示科技有限公司,未经江苏和成显示科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811248087.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top