[发明专利]自支撑微纳米结构及其制作方法在审
| 申请号： | 201811257763.9 | 申请日： | 2018-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN109437093A | 公开（公告）日： | 2019-03-08 |
| 发明（设计）人： | 黄永丹;熊康林;黄增立;许蕾蕾;孙骏逸;冯加贵;武彪;丁孙安;陆晓鸣 | 申请（专利权）人： | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人： | 孙伟峰 |
| 地址： | 215123 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 牺牲层 微纳米结构 自支撑 功能层 图案化区域 制作 图案化处理 微纳米材料 预设图案 成品率 可控性 图案部 衬底 去除 投影 覆盖 应用 | ||
1.一种自支撑微纳米结构的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：
在衬底(1)上形成牺牲层(2)以及覆盖牺牲层(2)的功能层(3)；
在功能层(3)上预设图案化区域，在图案化区域内进行图案化处理，以在功能层(3)中形成露出部分牺牲层(2a)的图案部(3a)；其中，所述部分牺牲层(2a)为所述图案化区域在所述牺牲层(2)的投影范围内的牺牲层；
将所述部分牺牲层(2a)去除，获得自支撑微纳米结构。
2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述制作方法还包括：对其上的所述部分牺牲层(2a)被去除后的衬底(1)进行热处理。
3.根据权利要求1或2所述的制作方法，其特征在于，所述对功能层(3)进行图案化处理的方法包括：
将形成有牺牲层(2)和功能层(3)的衬底(1)置于扫描电镜/聚焦离子束的双束系统的真空腔体内；
利用扫描电镜在功能层(3)的表面上确定图案化位置，并在图案化位置绘制预设图案；
利用聚焦离子束轰击所述预设图案所在的功能层(3)表面，以按照所述预设图案形成所述图案部(3a)。
4.根据权利要求1或2所述的制作方法，其特征在于，所述将所述部分牺牲层(2a)去除的方法包括：
将其上的功能层(3)被图案化处理后的衬底(1)置于干法刻蚀机内；
向所述干法刻蚀机内通入刻蚀气体和催化气体，使刻蚀气体经由所述图案部(3a)与所述部分牺牲层(2a)进行反应，从而将所述部分牺牲层(2a)去除。
5.根据权利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述刻蚀气体为氟化氢气体。
6.根据权利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述功能层(3)的材料包括不与所述刻蚀气体进行反应的介质材料或者金属材料。
7.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述牺牲层(2)的材料为氧化硅。
8.根据权利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述催化气体为气态水或者气态无水乙醇。
9.根据权利要求1或2所述的制作方法，其特征在于，所述功能层(3)的厚度为50nm～300nm；和/或所述牺牲层(2)的厚度为450nm～500nm。
10.一种由权利要求1至9任一项所述的制作方法制作形成的自支撑微纳米结构。
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