[发明专利]一种燃烧合成氮化硅粉体的方法有效
申请号: | 201811258641.1 | 申请日: | 2018-10-26 |
公开(公告)号: | CN108996483B | 公开(公告)日: | 2021-12-07 |
发明(设计)人: | 李江涛;王良;杨增朝;贺刚;杨潇;李永;双爽 | 申请(专利权)人: | 中国科学院理化技术研究所 |
主分类号: | C01B21/068 | 分类号: | C01B21/068 |
代理公司: | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人: | 赵晓丹 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 燃烧 合成 氮化 硅粉体 方法 | ||
1.一种燃烧合成氮化硅粉体的方法,其特征在于,以硅粉、氮化硅粉稀释剂和添加剂为原料,通过燃烧合成法制备氮化硅粉体,其中,所述添加剂为含SiO2物质、SiO和水中的一种或多种,所述含SiO2物质为硅溶胶、二氧化硅纳米粉或正硅酸乙酯水解产物;
所述硅粉、氮化硅粉稀释剂和添加剂的质量百分比为:硅粉30%-60%,氮化硅粉稀释剂30-70%,添加剂1-20%,且所有原料质量之和为100%。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,将硅粉与氮化硅粉稀释剂与添加剂均匀混合,制得反应物;将反应物置于模具中,并将模具置于反应釜中,在氮气压力下将反应物引燃,使其进行自蔓延反应;反应结束降温,取出产物,得到氮化硅粉体产物。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述硅粉粒径范围为0.1-15μm。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述氮化硅粉稀释剂粒径范围为0.1-20μm。
5.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述氮气压力为0.5-10MPa。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院理化技术研究所,未经中国科学院理化技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811258641.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。