[发明专利]一种用于小型两轴经纬仪的功率放大器在审
申请号: | 201811259629.2 | 申请日: | 2018-10-26 |
公开(公告)号: | CN109525209A | 公开(公告)日: | 2019-03-26 |
发明(设计)人: | 葛兵;余毅;蔡立华;陈兴文 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | H03F3/21 | 分类号: | H03F3/21;H03F1/52 |
代理公司: | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人: | 曹卫良 |
地址: | 130033 吉林省长春*** | 国省代码: | 吉林;22 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 芯片 功率放大器 电解电容 降低系统 陶瓷电容 接地 脚连接 并联 两轴 经纬 电机供电电源 系统集成度 伺服系统 依次串联 电源端 输出端 电容 电阻 | ||
本发明公开了一种用于小型两轴经纬仪的功率放大器,其包括有MSK4201芯片U1,所述MSK4201芯片U1的第3脚连接电源端VCC,且所述MSK4201芯片U1的第3脚通过相互并联的陶瓷电容C3和电解电容C4接地,所述MSK4201芯片U1的第1脚连接于电机供电电源端V+,且所述MSK4201芯片U1的第1脚通过相互并联的陶瓷电容C1和电解电容C2接地,所述MSK4201芯片U1的第2脚和第7脚作为所述功率放大器的两输出端,且所述MSK4201芯片U1的第2脚和第7脚之间连接有依次串联的电阻R3和电容C5。本发明可降低系统干扰、可提高系统集成度、能降低系统设计的复杂程度、降低伺服系统的设计难度以及降低成本。
技术领域
本发明涉及小型两轴经纬仪,尤其涉及一种用于小型两轴经纬仪的功率放大器。
背景技术
功率放大器是经纬仪伺服系统的重要组成部分,且经纬仪的方位俯仰轴电机由功率放大器驱动旋转,目前设备上采用的功率放大器都是单轴功率放大器,其内部采用IPM模块设计,因此体积比较大,而且IGBT的关断和打开过程中会引起很大的噪声,所以会影响其它电子设备,若采用4路PWM驱动,则需要进行死区、相位等时序设计,虽然能保证功率放大器正常工作,但增加了设计难度。
发明内容
本发明要解决的技术问题在于,针对现有技术的不足,提供一种可降低系统干扰、可提高系统集成度、能降低系统设计的复杂程度、降低伺服系统的设计难度以及降低成本的用于小型两轴经纬仪的功率放大器。
为解决上述技术问题,本发明采用如下技术方案。
一种用于小型两轴经纬仪的功率放大器,其包括有MSK4201芯片U1,所述MSK4201芯片U1的第3脚连接电源端VCC,且所述MSK4201芯片U1的第3脚通过相互并联的陶瓷电容C3和电解电容C4接地,所述MSK4201芯片U1的第1脚连接于电机供电电源端V+,且所述MSK4201芯片U1的第1脚通过相互并联的陶瓷电容C1和电解电容C2接地,所述MSK4201芯片U1的第2脚和第7脚作为所述功率放大器的两输出端,且所述MSK4201芯片U1的第2脚和第7脚之间连接有依次串联的电阻R3和电容C5。
优选地,在本申请提供的另一实施例中,上述用于小型两轴经纬仪的功率放大器,包括有二极管D1、二极管D2、二极管D3和二极管D4,所述二极管D1的阴极连接于电机供电电源端V+,所述二极管D1的阳极和二极管D2的阴极均连接于所述MSK4201芯片U1的第7脚,所述二极管D2的阳极接地,所述二极管D3的阴极连接于电机供电电源端V+,所述二极管D3的阳极和二极管D4的阴极均连接于所述MSK4201芯片U1的第2脚,所述二极管D4的阳极接地。
优选地,在本申请提供的另一实施例中,上述所述二极管D1、二极管D2、二极管D3和二极管D4的型号均为UF4007。
优选地,在本申请提供的另一实施例中,上述用于小型两轴经纬仪的功率放大器,包括有电压瞬态过压保护二极管D5,所述电压瞬态过压保护二极管D5的阳极接地,所述电压瞬态过压保护二极管D5的阴极连接于所述MSK4201芯片U1的第1脚。
优选地,上述所述电压瞬态过压保护二极管D5的型号为P6KE。
优选地,在本申请提供的另一实施例中,上述用于小型两轴经纬仪的功率放大器,包括有稳压二极管D6和稳压二极管D7,所述稳压二极管D6的阴极连接于所述MSK4201芯片U1的第4脚,所述稳压二极管D6的阳极接地,所述稳压二极管D7的阴极连接于所述MSK4201芯片U1的第6脚,所述稳压二极管D7的阳极接地。
优选地,在本申请提供的另一实施例中,上述稳压二极管D6和稳压二极管D7的型号均为1N4740。
优选地,在本申请提供的另一实施例中,上述电阻R3的器件参数为100ohm/2W,所述电容C5为1nf电容。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,未经中国科学院长春光学精密机械与物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811259629.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。