[发明专利]提高晶硅太阳电池的背铝栅线和激光开槽对准精度的方法有效
申请号: | 201811265980.2 | 申请日: | 2018-10-29 |
公开(公告)号: | CN109616545B | 公开(公告)日: | 2021-01-26 |
发明(设计)人: | 张树德;钱洪强;彭嘉琪;连维飞;魏青竹;倪志春 | 申请(专利权)人: | 苏州腾晖光伏技术有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0224;H01L31/0216;H01L31/02 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 孙仿卫;李萍 |
地址: | 215542 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 提高 太阳电池 背铝栅线 激光 开槽 对准 精度 方法 | ||
1.一种提高多晶硅太阳电池的背铝栅线和激光开槽对准精度的方法,其特征在于:所述多晶硅太阳电池包括多晶硅片,所述多晶硅片的背面设有激光标记点,所述激光标记点贯穿所述多晶硅片上的背面钝化膜,从而呈现出硅材料的颜色;通过改变所述多晶硅太阳电池的背面钝化膜的厚度和/或折射率,使所述背面钝化膜的颜色与所述激光标记点处的颜色不同;其中,所述背面钝化膜包括相互层叠的氧化铝层和氮化硅层,所述氧化铝层形成在所述多晶硅片的背面上,所述氮化硅层形成在所述氧化铝层的外表面上,所述氮化硅层的厚度为73~100纳米,折射率为1.9~2.1,使得所述背面钝化膜呈现为蓝色。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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