[发明专利]有机发光装置以及包括该有机发光装置的电子设备在审

专利信息
申请号: 201811266968.3 申请日: 2018-10-29
公开(公告)号: CN109786569A 公开(公告)日: 2019-05-21
发明(设计)人: 林珍娱;梁承珏;李宽熙 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/54;C07D209/86;C07D405/12;C07D401/12;C07C211/61;C07D333/76;C07F7/08;C07D491/048;C07D471/04;C07D403/10;C07D487/04;C07D40
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 周丹;王珍仙
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 有机发光装置 第一电极 第二电极 电子设备 有机层 第二化合物 第一化合物 发射层 申请
【权利要求书】:

1.一种有机发光装置,包括:

第一电极;

面向所述第一电极的第二电极;以及

在所述第一电极和所述第二电极之间的有机层,

其中所述有机层包括发射层,且

所述有机层包括:

由式1表示的第一化合物;

由式2表示的第二化合物;

由式3-1至式3-4中的一个表示的第三化合物;和

由式4-1或式4-2表示的第四化合物:

式1

式2

式3-1

式3-2

式3-3

式3-4

其中,在式1、2、3-1至3-4、4-1和4-2中,

A31至A34和A41至A46各自独立地为C3-C60碳环基团或C1-C60杂环基团,

X31为N[(L311)a311-R311]、C(R311)(R312)、Si(R311)(R312)、O或S,

X32为N[(L321)a321-R321]、C(R321)(R322)、Si(R321)(R322)、O或S,

X33为N[(L331)a331-R331]、C(R331)(R332)、Si(R331)(R332)、O或S,

X41为N[(L411)a411-R411]、C(R411)(R412)、Si(R411)(R412)、O或S,

L11至L13、L21至L23、L31至L33、L41至L43、L311、L321、L331和L411各自独立地为取代或未取代的C3-C60碳环基团或取代或未取代的C1-C60杂环基团,

a11至a13、a21至a23、a31至a33、a41至a43、a311、a321、a331和a411各自独立地为选自0至5的整数,

当a11为0时,*-(L11)a11-*'为单键,当a12为0时,*-(L12)a12-*'为单键,当a13为0时,*-(L13)a13-*'为单键,当a21为0时,*-(L21)a21-*'为单键,当a22为0时,*-(L22)a22-*'为单键,当a23为0时,*-(L23)a23-*'为单键,当a31为0时,*-(L31)a31-*'为单键,当a32为0时,*-(L32)a32-*'为单键,当a33为0时,*-(L33)a33-*'为单键,当a41为0时,*-(L41)a41-*'为单键,当a42为0时,*-(L42)a42-*'为单键,当a43为0时,*-(L43)a43-*'为单键,当a311为0时,*-(L311)a311-*'为单键,当a321为0时,*-(L321)a321-*'为单键,当a331为0时,*-(L331)a331-*'为单键,且当a411为0时,*-(L411)a411-*'为单键,

R11至R13、R21至R23、R31至R34、R41至R48、R311、R312、R321、R322、R331、R332、R411和R412各自独立地选自氢、氘、-F、-Cl、-Br、-I、羟基、氰基、硝基、脒基、肼基、腙基、取代或未取代的C1-C60烷基、取代或未取代的C2-C60烯基、取代或未取代的C2-C60炔基、取代或未取代的C1-C60烷氧基、取代或未取代的C3-C10环烷基、取代或未取代的C1-C10杂环烷基、取代或未取代的C3-C10环烯基、取代或未取代的C1-C10杂环烯基、取代或未取代的C6-C60芳基、取代或未取代的C6-C60芳氧基、取代或未取代的C6-C60芳硫基、取代或未取代的C1-C60杂芳基、取代或未取代的单价的非芳族稠合多环基团、取代或未取代的单价的非芳族稠合杂多环基团、-Si(Q1)(Q2)(Q3)、-N(Q1)(Q2)、-B(Q1)(Q2)、-C(=O)(Q1)、-S(=O)2(Q1)和-P(=O)(Q1)(Q2),

式1中R11至R13中的至少一个为由式1a表示的基团,

式2中R21至R23中的至少一个为由式2b表示的基团,条件是R21至R23中的每个都不是由式2a表示的基团,

其中,在式1a、2a和2b中,

A21为C3-C60碳环基团或C1-C60杂环基团,L111为取代或未取代的C3-C60碳环基团或取代或未取代的C1-C60杂环基团,a111为选自0至5的整数,当a111为0时,*-(L111)a111-*'为单键,R111至R113和R211至R217各自独立地与关于R11至R13所描述的相同,且R214和R215任选地连接以形成饱和或不饱和的环,

b11至b13、b111至b113、b21至b23、b212、b213、b216、b217、b31至b34和b41至b48各自独立地为选自1至4的整数,

m41为1、2或3,

所述取代的C3-C60碳环基团、所述取代的C1-C60杂环基团、所述取代的C1-C60烷基、所述取代的C2-C60烯基、所述取代的C2-C60炔基、所述取代的C1-C60烷氧基、所述取代的C3-C10环烷基、所述取代的C1-C10杂环烷基、所述取代的C3-C10环烯基、所述取代的C1-C10杂环烯基、所述取代的C6-C60芳基、所述取代的C6-C60芳氧基、所述取代的C6-C60芳硫基、所述取代的C1-C60杂芳基、所述取代的单价的非芳族稠合多环基团和所述取代的单价的非芳族稠合杂多环基团中的至少一个取代基选自:

氘、-F、-Cl、-Br、-I、羟基、氰基、硝基、脒基、肼基、腙基、C1-C60烷基、C2-C60烯基、C2-C60炔基和C1-C60烷氧基;

各自被选自以下的至少一个取代的C1-C60烷基、C2-C60烯基、C2-C60炔基和C1-C60烷氧基:氘、-F、-Cl、-Br、-I、羟基、氰基、硝基、脒基、肼基、腙基、C3-C10环烷基、C1-C10杂环烷基、C3-C10环烯基、C1-C10杂环烯基、C6-C60芳基、C6-C60芳氧基、C6-C60芳硫基、C1-C60杂芳基、单价的非芳族稠合多环基团、单价的非芳族稠合杂多环基团、-Si(Q11)(Q12)(Q13)、-N(Q11)(Q12)、-B(Q11)(Q12)、-C(=O)(Q11)、-S(=O)2(Q11)和-P(=O)(Q11)(Q12);

C3-C10环烷基、C1-C10杂环烷基、C3-C10环烯基、C1-C10杂环烯基、C6-C60芳基、C6-C60芳氧基、C6-C60芳硫基、C1-C60杂芳基、单价的非芳族稠合多环基团、单价的非芳族稠合杂多环基团、联苯基和三联苯基;

各自被选自以下的至少一个取代的C3-C10环烷基、C1-C10杂环烷基、C3-C10环烯基、C1-C10杂环烯基、C6-C60芳基、C6-C60芳氧基、C6-C60芳硫基、C1-C60杂芳基、单价的非芳族稠合多环基团和单价的非芳族稠合杂多环基团:氘、-F、-Cl、-Br、-I、羟基、氰基、硝基、脒基、肼基、腙基、C1-C60烷基、C2-C60烯基、C2-C60炔基、C1-C60烷氧基、C3-C10环烷基、C1-C10杂环烷基、C3-C10环烯基、C1-C10杂环烯基、C6-C60芳基、C6-C60芳氧基、C6-C60芳硫基、C1-C60杂芳基、单价的非芳族稠合多环基团、单价的非芳族稠合杂多环基团、-Si(Q21)(Q22)(Q23)、-N(Q21)(Q22)、-B(Q21)(Q22)、-C(=O)(Q21)、-S(=O)2(Q21)和-P(=O)(Q21)(Q22);以及

-Si(Q31)(Q32)(Q33)、-N(Q31)(Q32)、-B(Q31)(Q32)、-C(=O)(Q31)、-S(=O)2(Q31)和-P(=O)(Q31)(Q32);并且

Q1至Q3、Q11至Q13、Q21至Q23和Q31至Q33各自独立地选自氢、氘、-F、-Cl、-Br、-I、羟基、氰基、硝基、脒基、肼基、腙基、C1-C60烷基、C2-C60烯基、C2-C60炔基、C1-C60烷氧基、C3-C10环烷基、C1-C10杂环烷基、C3-C10环烯基、C1-C10杂环烯基、C6-C60芳基、被C1-C60烷基取代的C6-C60芳基、C1-C60杂芳基、单价的非芳族稠合多环基团、单价的非芳族稠合杂多环基团、联苯基和三联苯基,并且

*和*'各自表示与相邻原子的结合位点。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司,未经三星显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811266968.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top