[发明专利]一种蓝宝石C向长晶方法有效
申请号: | 201811267589.6 | 申请日: | 2018-10-29 |
公开(公告)号: | CN109112631B | 公开(公告)日: | 2021-01-01 |
发明(设计)人: | 徐永亮;冯微;汪海波;于海群;张国华;邱超 | 申请(专利权)人: | 浙江昀丰新材料科技股份有限公司 |
主分类号: | C30B29/20 | 分类号: | C30B29/20;C30B15/00 |
代理公司: | 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 | 代理人: | 逯长明;许伟群 |
地址: | 321000 浙江省金华*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 蓝宝石 方法 | ||
本申请提供了一种蓝宝石C向长晶方法,所述方法采用“宝塔式”引晶和“坐锅”方式长晶,能够缩小蓝宝石晶体顶部的气泡范围并能切断晶体位错等缺陷,而且能够降低底部粘锅时给拉速籽晶断裂或夹头断裂的风险,从而提高晶体质量,提高晶体的利用率。
技术领域
本发明属于蓝宝石单晶生长的技术领域,特别涉及适用于单晶炉内大尺寸蓝宝石C向长晶方法。
背景技术
蓝宝石(α-Al2O3)具有高硬度、高强度、耐腐蚀、高光透过率等特点,自1890年法国科学家维纳尔第一次制备了蓝宝石晶体以来,人造蓝宝石晶体的制备技术得到了快速发展,晶体质量不断提高,应用领域也得以大大拓宽。目前,蓝宝石被广泛应用于民用和军事等各个领域。在民用领域,蓝宝石用于耐磨结构件、医用材料、高温窗口、微电子行业衬底材料、激光基质材料、光学棱镜、手机窗口等;在军事领域,蓝宝石作为高速飞机和导弹的透波窗口、光电吊舱、潜艇的光电桅杆等领域。不断拓展的应用领域对蓝宝石材料不断提出新要求,除高硬度、高强度、耐磨损之外,还要求蓝宝石具有低应力、高光学完整性、大直径等性能。因此,生长低成本、大尺寸、高质量成为人工合成蓝宝石的趋势。
人工合成蓝宝石,即,生长蓝宝石晶体的方法主要包括直拉法(cz)、热交换法(HEM)、温梯法(TGT)和泡生法(Kyropoulos)等。其中,直拉法与温梯法主要用于生长100kg以下的蓝宝石晶体;而热交换法由于钼坩埚与蓝宝石单晶的热膨胀系数不同,容易导致晶体与坩埚边缘接触处极易产生热应力,进而易致单晶外部开裂。因此,目前生长大尺寸蓝宝石主要使用泡生法,此种方法生长的晶体缺陷少、位错密度低。
基于蓝宝石衬底的LED技术的迅猛发展,占据LED衬底市场的90%以上份额,对6英寸及以上蓝宝石衬底片的需求越来越大。由于C面蓝宝石晶体与Ⅲ/Ⅴ及Ⅱ/Ⅵ族化合物薄膜(如GaN薄膜)之间有很小的晶格失配率,例如,C面蓝宝石与GaN薄膜之间的晶格失配率仅为17%,因此,LED领域常以C面蓝宝石作为GaN薄膜外延生长层。
对于蓝宝石来讲,C向长晶获得大尺寸、高品质的蓝宝石的难度大,通常,C向生长蓝宝石晶体重量小,普遍为80kg以下。具体地,C向长晶晶格变形程度比其它方向大,由于蓝宝石晶体的各向异性,任何异质成核极易产生寄生缺陷。另外,籽晶本身存在位错缺陷也会遗传到所生长的晶体中。根据伯格斯矢量守恒理论,如果位错与生长界面相交,在生长过程中随界面推移,会导致位错的延伸,位错线具有特殊的拓扑性质,在C轴方向的位错,能够延伸到C晶体表面,C向长晶随着越来越多的界面位错线会不断积累,晶体位错也会越来越高,C向长晶最容易出现小角晶界和大角晶界的问题。
相较于C向长晶,A向长晶更为容易,因此,目前国内外生长用于LED衬底的蓝宝石大都采用A向长晶,C向掏棒的方式。但是,由于A向长晶晶体顶部易产生锥形气泡柱,底部易产生倒扣碗状气泡云,横向掏棒导致材料利用率低,如图1和图2所示,A向生长晶体的利用率低,仅为37.5%。相同尺寸相同重量蓝宝石晶体若采用C向长晶,则晶体利用率可提升至56.5%,即,C向长晶掏棒量是A向长晶掏棒量的1.5倍,使得C向长晶获得的晶体利用率大大提升。
由于目前市场上C向生长工艺主要为80kg以下晶体,大尺寸晶体的生长还不成熟,而且,C向长晶极易出现小角晶界和大角晶界的问题,影响晶体的利用率。因此,亟需开发一种能够减弱小角晶界和大角晶界问题的蓝宝石C向生长方法。
发明内容
本申请提供一种蓝宝石C向长晶方法,所述方法采用“宝塔式”引晶和“坐锅”方式长晶,能够缩小蓝宝石晶体顶部的气泡范围并能切断晶体位错等缺陷,而且能够降低底部粘锅时给拉速籽晶断裂或夹头断裂的风险,从而提高晶体质量,提高晶体的利用率。
本申请提供的方法包括以下步骤:
步骤1,将装有氧化铝原料的坩埚放入炉腔内,对炉腔抽真空后化料,得到氧化铝溶汤;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江昀丰新材料科技股份有限公司,未经浙江昀丰新材料科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811267589.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。