[发明专利]有机阻隔膜、有机阻隔膜的制备方法以及量子点器件

权利要求书

1.一种有机阻隔膜，其特征在于，包括由外到内依次设置的基材层、粘结层以及阻氧层，所述阻氧层包括聚乙烯醇，所述粘结层与所述阻氧层之间形成化学交联；

制备所述粘结层的原料包括：高分子粘结剂、交联剂和螯合剂；所述高分子粘结剂包括以下基团中的至少一种：羟基、羧基、氨基，所述螯合剂与所述聚乙烯醇形成化学键交联；

所述高分子粘结剂选自聚酯、聚氨酯或聚丙烯酸酯中的一种或多种；

所述交联剂用于提高所述粘结层的内聚力。

2.根据权利要求1所述的有机阻隔膜，其特征在于，所述基材层的外侧设置有疏水层或磨砂层，所述疏水层包括以下一种或多种疏水聚合物：聚偏二氯乙烯、聚偏氟乙烯、聚四氟乙烯、聚三氟氯乙烯，所述磨砂层包括载体以及透明颗粒。

3.根据权利要求1所述的有机阻隔膜，其特征在于，所述螯合剂选自以下一种或多种：硼酸、硼酸钠、丙烯酸钠、钛酸酯。

4.根据权利要求1所述的有机阻隔膜，其特征在于，所述交联剂选自以下一种或多种：聚碳二亚胺、氮丙啶、甲醚化六羟甲基三聚氰胺。

5.根据权利要求1所述的有机阻隔膜，其特征在于，所述高分子粘结剂的玻璃化转变温度小于50℃。

6.一种有机阻隔膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供基材层；

在所述基材层的第二侧设置粘结层，在所述粘结层上设置阻氧层，所述阻氧层包括聚乙烯醇，所述粘结层与所述阻氧层之间形成化学交联；

所述粘结层的制备方法包括：将包括高分子粘结剂、交联剂和螯合剂的混合物设置于所述基材层的第二侧，所述高分子粘结剂包括以下基团中的至少一种：羟基、羧基、氨基，所述螯合剂与所述聚乙烯醇形成化学键交联；

所述高分子粘结剂选自聚酯、聚氨酯、聚丙烯酸酯中的一种或多种；

所述交联剂用于提高所述粘结层的内聚力。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述螯合剂选自以下一种或多种：硼酸、硼酸钠、丙烯酸钠、钛酸酯。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述螯合剂在所述混合物中的质量百分数为1％～10％。

9.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述交联剂选自以下一种或多种：聚碳二亚胺、氮丙啶、甲醚化六羟甲基三聚氰胺。

10.根据权利要求6-9任一所述的制备方法，其特征在于，在所述基材层的第一侧设置疏水层或磨砂层。

11.根据权利要求6-9任一所述的制备方法，其特征在于，所述阻氧层的制备方法包括：将包括聚乙烯醇、水、消泡剂和流平剂的混合物，设置于所述粘结层。

12.一种量子点器件，其特征在于，包括量子点层以及设置在所述量子点层一侧或两侧的如权利要求1-5任一所述的有机阻隔膜，所述有机阻隔膜的所述阻氧层设置在靠近所述量子点层的内侧。