[发明专利]一种硅片刷片机

说明书

本发明涉及一种硅片刷片机，包括料盘升降装置、传送装置和转动装置，所述的工作台上端中部安装有转动装置，该转动装置的前、后方对称布置有传送装置，所述的传送装置靠近转动装置的一侧安装有放置座，该传送装置的另一侧安装有料盘升降装置，所述的放置座与转动装置之间设置有转运装置。本发明通过高转速电机控制吸盘转动，升降气缸控制圆盘刷上下升降，旋转气缸控制摆杆轴带着圆盘刷一起转动，自动化程度高，大大降低了人工成本。本发明通过吸盘吸住硅片进行清洗，可以避免对硅片表面的损伤；通过料盘升降装置实现料盘盒的升降，方便将料盘盒中的硅片从下往上依次一个一个送去清洗，自动化程度高，大大降低了人工成本。

技术领域

本发明涉及硅片刷片机技术领域，特别是涉及一种硅片刷片机。

背景技术

半导体器件生产中，硅片必须经过严格清洗，微量污染也会导致器件失效，清洗的目的在于清除表面污染杂质，清除污染的方法有物理清洗和化学清洗，物理清洗主要是采用刷洗或擦洗的方法将硅片表面杂质去除，化学清洗主要采用清洗液直接浸泡清洗，实际生产过程中，直接浸泡时硅片往往放置于吊篮内浸入溶液，由于硅片之间相互叠加，导致清洗不均匀，而且硅片与吊篮的接触面积较大，也容易产生冲洗不干净的质量问题。鉴于以上缺陷，有必要设计一种硅片清洗装置。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种硅片刷片机，高转速电机控制吸盘转动，升降气缸控制圆盘刷上下升降，旋转气缸控制摆杆轴带着圆盘刷一起转动，自动化程度高，大大降低了人工成本。本发明通过吸盘吸住硅片进行清洗，可以避免对硅片表面的损伤；通过料盘升降装置实现料盘盒的升降，方便将料盘盒中的硅片从下往上依次一个一个送去清洗，自动化程度高，大大降低了人工成本。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：提供一种硅片刷片机，包括料盘升降装置、传送装置和转动装置，所述的工作台上端中部安装有转动装置，该转动装置的前、后方对称布置有传送装置，所述的传送装置靠近转动装置的一侧安装有放置座，该传送装置的另一侧安装有料盘升降装置，所述的放置座与转动装置之间设置有转运装置；

所述的转动装置包括清洗腔底罩、高转速电机和真空罩杯，所述的工作台上端安装有清洗腔底罩，该清洗腔底罩上端安装有清洗腔排水罩，所述的清洗腔排水罩上端中部安装有真空罩杯，所述的清洗腔底罩内竖直安装有高转速电机，该高转速电机上端的输出轴连接有驱动轴，所述的驱动轴的上端竖直穿过真空罩杯与第一吸盘相连，该驱动轴内设置有连接第一吸盘与真空罩杯腔体的管路，所述的真空罩杯一侧开有与抽真空设备相连的接口，所述的高转速电机一侧设置有相配的减速装置，所述的工作台的上端位于清洗腔底罩的一侧安装有刷洗装置；

所述的刷洗装置包括转动升降机构、圆头刷和刷洗电机，所述的转运装置包括转动升降机构和第二吸盘；

所述的转动升降机构包括摆杆轴座、摆杆轴和旋转气缸，该摆杆轴座内安装有上下滑动的摆杆轴，所述的工作台下方通过第一导杆与底板相连，该底板的下端中部竖直安装有升降气缸，所述的升降气缸的活塞杆穿过底板与升降台相连，该升降台的两侧套接在第一导杆中部，所述的升降台上端安装有与摆杆轴下端相连的旋转气缸，所述的摆杆轴的上端一侧竖直安装有刷毛电机或者竖直安装有第二吸盘，所述的刷毛电机下端的输出轴上安装有圆盘刷。

作为对本发明所述的技术方案的一种补充，所述的减速装置包括减速电机、第一主动带轮和第一从动带轮，所述的高转速电机一侧安装有减速电机，该减速电机的输出轴上安装有第一主动带轮，所述的第一主动带轮通过皮带与高转速电机输出轴安装的第一从动带轮相连。

作为对本发明所述的技术方案的一种补充，所述的清洗腔排水罩的上端安装有清洗腔排风罩，该清洗腔排风罩一侧设置有排风通道，所述的排风通道一端与清洗腔底罩一侧设置的排风管相连。

作为对本发明所述的技术方案的一种补充，所述的清洗腔排风罩的上端安装有清洗腔挡水罩，该清洗腔挡水罩的上方一侧设置有喷水管。