[发明专利]一种碳化硅陶瓷表面激光熔覆玻璃膜层的制备方法、及复合材料

权利要求书

1.一种碳化硅陶瓷表面激光熔覆玻璃膜层的制备方法，其特征在于，包括：

（1）将玻璃粉、粘结剂和溶剂混合，得到混合悬浮液；所述粘结剂为聚乙烯醇缩丁醛、聚乙烯醇中的至少一种，加入量不超过玻璃粉质量的1wt%；所述溶剂为乙醇、去离子水中的至少一种，混合悬浮液的固含量≤50wt%；所述玻璃粉的主要成份包括SiO₂；所述玻璃粉的粒径为0.6μm～5μm；

（2）将所得混合悬浮液喷涂在碳化硅陶瓷表面，再经烘干，得到预制膜层；

（3）将所得预制膜层加热至150～200℃并进行激光熔覆处理；

（4）重复步骤（2）和（3）直至达到玻璃膜层所需的厚度；

（5）将所述玻璃膜层于800℃-1000℃进行热处理。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述玻璃粉中SiO₂的含量不低于90wt%。

3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述玻璃粉的粒径为2μm～3μm。

4.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述预制膜层的厚度为2～10μm。

5.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述激光熔覆处理的参数包括：激光功率为10W～90W，扫描速度为3mm/s～30mm/s，扫描间距为0.05mm～0.3mm。

6.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述混合的方式为球磨混合，球磨混合后的混合悬浮液中玻璃粉的粒径≤1μm。

7.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述热处理的时间为10～30分钟。

8.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，在喷涂混合悬浮液之前，将碳化硅陶瓷进行表面的预处理，去除表面层。

9.一种根据权利要求1-8中任一项所述的制备方法制备的复合材料，其特征在于，所述复合材料包括碳化硅陶瓷、以及形成在所述碳化硅陶瓷表面的玻璃膜层。

10.根据权利要求9所述的复合材料，其特征在于，所述玻璃膜层的厚度≥10μm。

11.根据权利要求9所述的复合材料，其特征在于，所述玻璃膜层的表面粗糙度小于3nm，所述玻璃膜层的莫氏硬度为6±0.5。