[发明专利]晶核投加清洗装置

权利要求书

1.一种晶核投加清洗装置，它包括：料仓（2）、输送机、清洗装置、澄清水池（12）和循环水泵（14），其特征在于：料仓（2）下端的料仓出口（3）位于输送机的一端，输送机的另一端通过漏斗（13）将晶核送入清洗装置，清洗装置包括：清洗仓（5）和溢流槽（8），溢流槽（8）装在清洗仓（5）进料端，溢流槽（8）的底端开有溢流槽出水口（18），清洗仓（5）由圆柱形的上部和圆锥形的下部组成，漏斗（13）位于在清洗仓（5）圆柱形的上端，在圆锥形的下端开有晶核出口（7），在圆锥形的侧壁上开有循环水进水口（6）和清洗水进水口（20），清洗水进水口（20）与自来水管道相连；澄清水池（12）为长方形水池，它由至少二块堰板（11）将其隔成的至少三个清洗仓（10）组成，在澄清水池（12）的一端开有澄清水池进水口（19），在靠近澄清水池进水口（19）的二个清洗仓（10）的底部装有排渣管（15），澄清水池（12）的另一端开有澄清水池出水口（21）；澄清水池出水口（21）通过循环水泵（14）和水管与循环水进口（6）相连，溢流槽出水口（18）通过水管与澄清水池进水口（19）相连。

2.根据权利要求1所述的晶核投加清洗装置，其特征在于：所述堰板（11）为3块，各个堰板（11）的高度相同，它们将澄清水池（12）隔成四个清洗仓（10）。

3.根据权利要求2所述的晶核投加清洗装置，其特征在于：所述的输送机由螺旋输送辊（4）和电机（9）组成，位于料仓出口（3）下端的螺旋输送辊（4）一端装有电机（9），电机（9）带动螺旋输送辊（4）旋转，将晶核送到螺旋输送辊（4）的另一端的漏斗（13）中，螺旋输送辊（4）与水平面的倾角为15°至45°，输送机由输送机支架（17）支撑。

4.根据权利要求3所述的晶核投加清洗装置，其特征在于：所述清洗仓（5）由清洗仓支架（23）支撑。

5.根据权利要求4所述的晶核投加清洗装置，其特征在于：所述澄清水池（12）由澄清水池支架（22）支撑。

6.根据权利要求5所述的晶核投加清洗装置，其特征在于：所述料仓（2）由圆柱形的上部和圆锥形的下部组成，在圆锥形的下端开有料仓出口（3），圆柱形的上端开有料仓进口（1），料仓（2）由料仓支架（16）支撑。

7.根据权利要求6所述的晶核投加清洗装置，其特征在于：所述的晶核为金刚砂或砂粒。