[发明专利]一种大型超恒温反应器均流系统

权利要求书

1.种大型超恒温反应器均流系统，包括圆筒形的反应器筒体（6），反应器筒体（6）内设有反应管束（7），其特征在于：所述反应器筒体（6）上下两端分别设有上分布板（10）和下分布板（3），上、下分布板（10、3）上均开设有流通孔（12），所述上分布板（10）上方间隔设有上管板（11），下分布板（3）下方间隔设有下管板（1），所述反应管束（7）的两端分别穿过上、下分布板（10、3）固定在上、下管板（11、1）上，上管板（11）和反应器筒体（6）上部之间连接有将反应器筒体（6）上缘密封围设在内的上导流筒（8），上导流筒（8）分别与反应器筒体（6）和上管板(11)相连，上导流筒（8）上设有流体出口（9），下管板（1）和反应器筒体（6）下部之间连接有将反应器筒体（6）下缘密封围设在内的下导流筒（5），下导流筒（5）分别与反应器筒体（6）和下管板(1)相连，下导流筒（5）上设有流体进口（4），反应器筒体（6）下边缘和下管板（1）之间的筒体壁面上设有均匀分布的流入孔（2）。

2.根据权利要求1所述的大型超恒温反应器均流系统，其特征在于：所述流体出口（9）和流体进口（4）均为两个以上，各流体出口（9）在上导流筒（8）的圆周上均匀分布，各流体进口（4）在下导流筒（5）的圆周上均匀分布。

3.根据权利要求2所述的大型超恒温反应器均流系统，其特征在于：所述上导流筒（8）外周设有出口环形母管，出口环形母管将流体出口（9）连通，所述下导流筒（5）外周设有进口环形母管，进口环形母管将流体进口（4）连通。

4.根据权利要求1或2或3所述的大型超恒温反应器均流系统，其特征在于：所述流入孔（2）为两个以上，各流入孔（2）沿反应器筒体（6）的下壁均匀分布，流入孔（2）为矩形孔或圆形孔或半圆孔或椭圆孔。

5.根据权利要求1或2或3所述的大型超恒温反应器均流系统，其特征在于：所述流通孔（12）为圆形孔或半圆孔或半腰型孔，流通孔（12）分布在反应管束（7）之间。

6.根据权利要求1或2或3所述的大型超恒温反应器均流系统，其特征在于：所述流通孔（12）为开设在反应管束（7）周围的环形间隙，流通孔直边段的间距由圆心向外分不同间距布置。

7.根据权利要求1或2或3所述的大型超恒温反应器均流系统，其特征在于：所述反应管束（7）分布在靠近反应器筒体（6）内壁面的位置，反应器筒体（6）内部的中心为空心区域（13）。

8.根据权利要求1或2或3所述的大型超恒温反应器均流系统，其特征在于：所述反应管束（7）为光管或螺旋扭曲管或高效特型管。

9.根据权利要求1或2或3所述的大型超恒温反应器均流系统，其特征在于：所述下导流筒（5）焊接在反应器筒体外部或者是内嵌在反应器筒体（6）中。

10.根据权利要求1所述的大型超恒温反应器均流系统，其特征在于：在上管板（11）外侧上设置圆形或圆锥形管箱，在下管板（1）外侧上设置圆形或圆锥形管箱。