[发明专利]调节方法

说明书

本发明公开了一种调节方法，调节方法包括一级调节和二级调节，一级调节在二级调节完成之后进行，二级调节包括：利用成像组件分别获取光源发射的光经物镜安装面反射的光形成的光源第一像和经第一平面反射的光形成的光源第二像，调节二级调节结构以使光源第二像和光源第一像重合；一级调节包括：将载有反应器的承载模块和一级调节结构安装在第一平面上，承载模块位于一级调节结构上，调节一级调节结构以使反应器的表面与第一平面满足预设位置关系。上述调节方法，通过两级调节，可将反应器的平面调节到第一平面满足预设位置关系，满足了测序的要求。

技术领域

本发明涉及光学成像技术领域，特别涉及一种用于光学成像系统或者包含光学成像系统的设备的调节方法。

背景技术

随着核酸测序技术的不断发展，测序系统也不断更新。在基于光学成像系统检测反应器中的待测核酸分子的测序系统/测序平台中，测序系统包括成像组件，利用成像组件对测序反应时的反应器(例如芯片)中的核酸分子进行拍摄，并分析拍摄所得的图像进而得到测序结果。

一般地，要实现对焦和/或追焦以采集多个时间点的反应器上的一个或多个位置/视野的图像，要求测序平台上安装的反应器与成像组件满足或者说保持相对的位置关系。

通常地，测序系统包括有承载反应器和/或调节反应器位置用的承载调节结构。如何设计或改进该结构以保证置入测序系统的反应器位于合适位置和/或在测序过程中始终位于相对合适位置以满足测序要求，成为待解决的问题。

发明内容

本发明提供一种调节方法。

本发明实施方式的一种调节方法，用于光学成像系统，所述光学成像系统包括承载调节结构和成像组件，所述承载调节结构包括承载模块、一级调节结构和二级调节结构，所述承载模块用于承载反应器，所述二级调节结构包括第一平面，所述成像组件包括光源和物镜安装件，所述物镜安装件包括物镜安装面，所述调节方法包括一级调节和二级调节，所述一级调节在所述二级调节完成之后进行，

所述二级调节包括：利用所述成像组件分别获取所述光源发射的光经所述物镜安装面反射的光形成的光源第一像和经所述第一平面反射的光形成的光源第二像，

调节所述二级调节结构以使所述光源第二像和所述光源第一像重合；

所述一级调节包括：将载有所述反应器的承载模块和所述一级调节结构安装在所述第一平面上，所述承载模块位于所述一级调节结构上，

调节所述一级调节结构以使所述反应器的表面与所述第一平面满足预设位置关系。

上述调节方法，通过两级调节，可将反应器的平面调节到第一平面满足预设位置关系，因此，可使得反应器的平面与成像组件的位置关系可调节到期望的位置关系，满足了利用光学成像的测序平台实现核酸序列测定的必要条件至少之一,包括使得测序过程中成像组件对反应器特定位置进行光学检测以及动态过程中对反应器多个特定位置进行光学检测能够得以实现。

在某些实施方式中，所述光源发射的光为平行光，所述成像组件包括透镜和相机，所述透镜用于将所述物镜安装面或所述第一平面反射的所述平行光汇聚，所述相机用于接收经所述透镜汇聚的光形成的所述光源第一像或所述光源第二像。

在某些实施方式中，所述光源为点光源，所述成像组件包括第一透镜和第二透镜，所述第一透镜用于将所述光源发射的光转换为平行光，所述第二透镜用于将所述物镜安装面或所述第一平面反射的所述平行光汇聚，所述相机用于接收经所述第二透镜汇聚的光形成的所述光源第一像和所述光源第二像。

在某些实施方式中，所述第一平面设有第一光学元件，所述第一光学元件用于反射到达所述第一平面的光；或者

所述物镜安装面设有第二光学元件，所述第二光学元件用于反射到达所述物镜安装面的光。