[发明专利]一种用于射线源的浮动靶机构

说明书

本发明公开了一种用于射线源的浮动靶机构，包括射线源壳体、管壳内罩、浮动靶、靶座、弹性压缩管和驱动机构；所述靶座的上部气密性连接浮动靶，所述靶座的下部气密性连接弹性压缩管，所述靶座位于管壳内罩之上，所述管壳内罩的下部气密性固定在射线源壳体上，所述弹性压缩管套设在管壳内罩的外部，所述驱动机构一端连接在射线源壳体上，另一端连接在靶座上。本发明的浮动靶机构应用于射线源，可以有效避免靶面点蚀造成的靶功能失效问题，大幅度提高靶的使用寿命，射线源寿命周期内无需再更换靶组件。

技术领域

本发明涉及一种X射线成像技术，尤其涉及的是一种用于射线源的浮动靶机构。

背景技术

X射线源是X射线成像系统的核心部件，广泛应用于封装检测、材料探伤、医疗成像等领域。X射线源是主要功能是产生X射线，其原理是利用射线源内部场致发射或热电子发射产生的电子束轰击窗口靶产生X射线，产生的X射线透过窗口靶向射线源外辐射。

常规的射线源窗口靶一般采用镀钨金刚石片制成，X射线主要由高能电子束轰击金刚石表面的钨涂层产生，由于金刚石窗口的钨层长期受到高能电子束轰击，会造成镀层点蚀，从而丧失靶功能。

为了保证射线源能长期稳定工作，需要定期转移电子束在靶上的聚焦点，避免电子束在某一靶点连续轰击，通常情况下使用两种方法解决靶点蚀问题，一种是通过磁透镜令电子束发生偏转，另一种是通过控制靶的位移来避开点蚀。

然而真空环境下，很难实现靶材的位移，调节时间过长，精度不高也是非常难解决的问题。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于：现有技术无法调节靶材的位置，高能电子束长期轰击靶面会造成靶面点蚀，提供了一种用于射线源的浮动靶机构。

本发明是通过以下技术方案解决上述技术问题的，本发明包括射线源壳体、管壳内罩、浮动靶、靶座、弹性压缩管和驱动机构；所述靶座的上部气密性连接浮动靶，所述靶座的下部气密性连接弹性压缩管，所述靶座位于管壳内罩之上，所述管壳内罩的下部气密性固定在射线源壳体上，所述弹性压缩管套设在管壳内罩的外部，所述驱动机构一端连接在射线源壳体上，另一端连接在靶座上。

所述驱动机构包括至少两个结构相同的驱动件，相邻驱动件的相互垂直设置。

所述驱动机构有两个相互垂直设置在射线源壳体外部的驱动件。可以实现水平方向上X方向和Y方向的调节，最大位移距离通过靶座与管壳内罩之间预留的台阶间隙控制。

所述驱动件包括拨杆、拨杆座、调整旋钮；所述拨杆的一端连接在靶座的外沿，另一端连接调整旋钮，所述拨杆座固定在射线源壳体外，所述拨杆铰接在拨杆座上，所述调整旋钮旋转带动弹性压缩管沿水平方向移动。

作为本发明的优选方式之一，所述拨杆中部通过销钉铰接在拨杆座上。

所述调整旋钮上刻有分度线。能够精准控制位置。

所述弹性压缩管内抽真空，所述靶座压持在管壳内罩之上，所述靶座和管壳内罩的压持处设置有至少一个减摩擦机构。

所述减摩擦机构为滚珠轴承。通过滚珠轴承将浮动靶以及靶座承受的大气压力传导到管壳内罩上，阻止波纹管纵向收缩

作为本发明的优选方式之一，所述弹性压缩管为波纹管。

本发明相比现有技术具有以下优点：本发明的浮动靶机构应用于射线源，可以有效避免靶面点蚀造成的靶功能失效问题，大幅度提高靶的使用寿命，射线源寿命周期内无需再更换靶组件；

使用了波纹管结构，彻底解决了常规运动部件气密性不满足超高真空要求的问题，保证了射线源内部的真空度低于1×10^-7Pa的超高真空环境；

浮动靶的驱动结构简单可靠，有效解决了靶面点蚀造成的靶功能失效问题，射线源寿命周期内无需再更换靶组件；