[发明专利]一种用于液晶显示屏玻璃基板薄化处理的蚀刻液

说明书

一种用于液晶显示屏玻璃基板薄化处理的蚀刻液，其特征在于所述蚀刻液由以下组分组成：重量百分比含量4‑10％的盐酸((以HCl计)，重量百分比含量4％～6％的氢氟酸(以HF计)，重量百分比含量0.3～0.5％的氯化钾，重量百分比0.7％～1.0的氯化铵，重量百分比1％～2％的羟丙基‑β‑环糊精，以及重量比5％～8％的丙三醇及余量的水。

技术领域

本发明涉及用于TFT玻璃基板蚀刻组合物。

背景技术

现有的TFT玻璃基板厚度无法满足制作超薄TFT(ThinFilmTransistor，薄膜晶体管)显示屏的要求，因此对现有规格玻璃基板进行薄化处理，而当前普遍采用的氢氟酸蚀刻薄化方法的对玻璃基板进行处理，但常规处理方法往往会在TFT玻璃表面现局部过蚀产生的凹坑，需要再对基板表明进行长时间的抛光处理。严重影响了生产效率，提高了加工成本。为了减少薄化处理出现的凹坑，现有技术采用的方法为薄化处理前对TFT液晶屏的玻璃基板(简称TFT玻璃)进行预处理，如中国专利2016112686783公开了用于液晶显示屏玻璃基板表面处理的组合物，其配方为以质量百分比含量8～12％的盐酸(HCl)，质量百分比含量3-5％的硝酸，质量百分比含量2％～5％的氢氟酸(HF)，质量百分含量0.1～0.2％的氯化钙，质量百分比含量1～2％的羟丙基甲基纤维素(HPMC)，质量百分比含量0.5～1％的结冷胶，及余量的水。采用该文献提供的预处理剂对TFT玻璃基板进行预处理。虽然可以较好的实现的减少薄化后玻璃基板凹坑的效果，但研磨后的TFT玻璃容易产生眩光，现有技术中多为采用防眩膜解决眩光问题，但会增加液晶屏整体厚度，在用于手机液晶屏等对厚度敏感的场合时并不适用，中国专利文献CN2011102930815公开了一种防眩玻璃的蚀刻液，但在研究中发现，采用这种方式制得的防眩玻璃在仅能用于对TFT基板进行表面进行处理，无法直接用于薄化。因此提供一种TFT玻璃基板薄化用蚀刻液，能够在玻璃基板进行薄化的同时，使表面产生合适的雾度从而实现防眩效果，成为现有技术中亟待解决的问题。

发明内容

为解决前述技术问题，本发明提供了TFT玻璃基板薄化用蚀刻液及蚀刻处理工艺，通过优选蚀刻液的处方，并采用适当的蚀刻处理工艺，可以在对TFT玻璃基板的进行薄化的同时，实现对基板表面进行防眩减反射处理的效果。为解决前述技术问题本发明采用的技术方案为：

提供了TFT玻璃基板薄化用蚀刻液，其特征在于所述蚀刻液由以下组分组成：重量百分比含量3～6％的盐酸(以HCl计)，重量百分比含量1-2％的硝酸(以HNO₃计)，重量百分比含量2％～5％的氢氟酸(以HF计)，质量百分含量0.3～0.5％的氯化钾，重量百分比0.4％～0.6的氯化铵，重量百分比含量1～2％的羟丙基甲基纤维素(HPMC)，质量百分比含量0.5～1％的羟丙基二淀粉磷酸酯，及余量的水。

所述TFT玻璃基板薄化用蚀刻液，其特征在于所述优选蚀刻液由以下组分组成：重量百分比含量4％～5％的盐酸(以HCl计)，重量百分比含量1％-2％的硝酸(以HNO₃计)，重量百分比含量3％～4％的氢氟酸(以HF计)，质量百分含量0.3～0.5％的氯化钾，重量百分比0.4％～0.6的氯化铵，重量百分比含量1～1.5％的羟丙基甲基纤维素(HPMC)，质量百分比含量0.8～1％的羟丙基二淀粉磷酸酯及余量的水。所述的羟丙基甲基纤维素粘度规格优选为4000mpa.s。

本发明还提供了一种采用TFT玻璃基板薄化用蚀刻液所述TFT玻璃基板薄化用蚀刻液，其特征在于以如下方法配制，

1)将处方量盐酸、硝酸与氢氟酸混合，并加入适量水稀释后，加入处方量的氯化钙溶解，

2)将处方量的羟丙基甲基纤维素、结冷胶溶于适量水中至完全溶解；

3)将步骤1)得到的混合液缓慢加入步骤2)的混合液中，补足余量的水后搅拌至混合均匀。