[发明专利]一种利用空化效应清洗的乳制品预处理净乳装置在审
申请号: | 201811279894.7 | 申请日: | 2018-10-30 |
公开(公告)号: | CN109365150A | 公开(公告)日: | 2019-02-22 |
发明(设计)人: | 林叶青 | 申请(专利权)人: | 林叶青 |
主分类号: | B04B15/06 | 分类号: | B04B15/06;B04B5/04;B04B11/00 |
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地址: | 355099 福建省*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 离心分离罐 传动装置 空化效应 排污管道 清洗 污渍 预处理 底板 转动电机 乳制品 净乳 乳液 残留 更换零件 扰流装置 镶嵌固定 正向旋转 固定槽 观察窗 清洗罩 附着 内壁 支脚 焊接 细菌 贯通 贯穿 | ||
本发明公开了一种利用空化效应清洗的乳制品预处理净乳装置,其结构包括排污管道、离心分离罐、转动电机、传动装置保护筒、底板、支脚、观察窗,排污管道水平放置焊接且贯穿在离心分离罐表面,离心分离罐靠近底板的一端与传动装置保护筒相贯通,转动电机靠近排污管道的一侧镶嵌固定安装在传动装置保护筒左侧,相较于现有技术,在清洗时,利用空化效应,清理内壁上的污渍,将依靠乳液粘性附着在内壁上的污渍残留彻底清除,方便可靠,避免残留污渍滋生大量的细菌,影防止响下次处理的乳液质量,在不用清洗时,可以直接使用,正向旋转时水流会将扰流装置283重新压到清洗罩28表面设有的固定槽内,不用去更换零件,提高了乳品的加工处理的效率。
技术领域
属于乳品生产设备技术领域,具体涉及一种利用空化效应清洗的乳制品预处理净乳装置。
背景技术
净乳是乳制品加工过程中必不可少的工序,属于预处理装置,利用高速旋转的离心力根据稀奶油和无脂牛奶以及原乳中的毛发、乳房细胞、白血球、红血球、细菌等之间密度差,在一定温度下将其分离、提取,当现有技术考虑不足的是:
当在离心腔内清理乳液残余时,普通清洗手段不好清洗,人工清洗需要将锥形拦杂碟片组拆卸取出较为麻烦,且其内部结构复杂,人工清洗难以触及到一些角落,容易将部分乳液残留,乳液在经一段时间后会滋生大量的细菌,影响乳液质量,而一般的机械自清洗,由于乳液具备的粘性,难以将残留彻底去除。
发明内容
针对现有技术存在的不足,本发明目的是提供一种利用空化效应清洗的乳制品预处理净乳装置,以解决当在离心腔内清理乳液残余时,普通清洗手段不好清洗,人工清洗需要将锥形拦杂碟片组拆卸取出较为麻烦,且其内部结构复杂,人工清洗难以触及到一些角落,容易将部分乳液残留,乳液在经一段时间后会滋生大量的细菌,影响乳液质量,而一般的机械自清洗,由于乳液具备的粘性,难以将残留彻底去除的问题。
为了实现上述目的,本发明是通过如下的技术方案来实现:一种利用空化效应清洗的乳制品预处理净乳装置,其结构包括排污管道、离心分离罐、转动电机、传动装置保护筒、底板、支脚、观察窗,其特征在于:所述排污管道水平放置焊接且贯穿在离心分离罐表面,所述离心分离罐靠近底板的一端与传动装置保护筒相贯通,所述转动电机靠近排污管道的一侧镶嵌固定安装在传动装置保护筒左侧,所述传动装置保护筒底部镶嵌固定有支脚,所述底板靠近传动装置保护筒的一面套设在支脚底部,所述支脚竖直安装放置,所述观察窗通过螺栓固定安装在传动装置保护筒表面。
作为优选的,所述离心分离罐由通料管道、拦杂碟片组、转动腔、分离罐外壳、活动挡板、进水加压管、排杂通道、清洗罩组成,所述通料管道底部与拦杂碟片组相贯通,所述拦杂碟片组位于清洗罩内部与通料管道处于同一轴线,所述转动腔贯穿于分离罐外壳顶部,所述活动挡板固定安装在转动腔底部与其底部之间留有间隙,所述进水加压管贯穿转动腔底部与活动挡板和转动腔形成的间隙相贯通,所述排杂通道贯穿分离罐外壳与排污管道相贯通,所述清洗罩底部套设在拦杂碟片组上方且通过螺栓固定安装在通料管道外侧。
作为优选的,所述拦杂碟片组由进料通道、稀奶油排料通道、流动通孔、拦杂碟片、分料头、转轴、插销组成,所述进料通道位于转轴上方与稀奶油排料通道处于同一轴线,所述稀奶油排料通道表面贯穿有穿孔与拦杂碟片之间的空间相贯通,所述流动通孔贯穿在拦杂碟片外面,所述拦杂碟片与稀奶油排料通道为一体化结构,所述分料头固定安装在进料通道下方与其位于同一轴线,所述转轴镶嵌安装在分料头下方,所述插销镶嵌固定安装在转轴右侧表面。
作为优选的,所述清洗罩由套孔、安装孔、扰流装置、罩壳、流动孔组成,所述套孔贯穿在罩壳顶部表面,所述安装孔贯穿于套孔四周罩壳的表面,所述扰流装置镶嵌固定安装在罩壳表面,所述流动孔贯穿于罩壳斜边表面。
作为优选的,所述扰流装置由扰流头、侧弧面、底弧面、固定装置组成,所述扰流头位于远离固定装置的一端,所述侧弧面与扰流头为一体化结构,所述底弧面与侧弧面为一体化结构,所述固定装置镶嵌固定安装在侧弧面远离扰流头的一端。
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