[发明专利]一种场聚焦效应的电推进装置有效
申请号: | 201811280396.4 | 申请日: | 2018-10-30 |
公开(公告)号: | CN109204888B | 公开(公告)日: | 2020-03-17 |
发明(设计)人: | 高辉;罗杨;许诺;魏厚震 | 申请(专利权)人: | 北京机械设备研究所 |
主分类号: | F03H1/00 | 分类号: | F03H1/00;B64G1/40 |
代理公司: | 北京天达知识产权代理事务所(普通合伙) 11386 | 代理人: | 李明里;庞许倩 |
地址: | 100854 北京市海淀区永*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 聚焦 效应 推进 装置 | ||
1.一种场聚焦效应的电推进装置,其特征在于,所述电推进装置包括:栅极(1)、第一支撑(2)、场聚焦极(4)、第二支撑(3)、发射极(5)、基底(8);
所述发射极(5)上设有发射锥,所述场聚焦极(4)设置在所述发射锥的尖端,且不与所述发射锥的尖端接触;所述栅极(1)设置在所述发射锥尖端方向,且所述栅极(1)与发射锥之间留有间隙;
所述栅极(1)通过所述第一支撑(2)与所述基底(8)连接,所述场聚焦极(4)通过所述第二支撑(3)与所述基底(8)连接;
所述场聚焦极(4)和栅极(1)对应所述发射锥的位置均设有形状和尺寸相同的通孔;所述栅极(1)与发射极(5)之间设有电位差,所述发射极(5)和场聚焦极(4)之间无电位差;所述发射极(5)为多孔材料,孔中填充推进剂。
2.根据权利要求1所述的场聚焦效应的电推进装置,其特征在于,所述栅极(1)、第一支撑(2)、场聚焦极(4)、第二支撑(3)和发射极(5)均设置在所述基底(8)的同一侧;
所述发射锥设有多个,且在所述发射极(5)上呈圆形或正多边形阵列。
3.根据权利要求1所述的场聚焦效应的电推进装置,其特征在于,所述基底(8)未与第一支撑(2)连接的一侧设有存储腔(7);所述存储腔(7)内存有推进剂。
4.根据权利要求3所述的场聚焦效应的电推进装置,其特征在于,所述场聚焦效应的电推进装置还设有推进剂通道,所述推进剂通道贯穿所述存储腔(7)的腔壁和所述基底(8);
所述存储腔(7)内的推进剂能够通过推进剂通道补充进入所述发射极(5)的多孔材料的孔中。
5.根据权利要求4所述的场聚焦效应的电推进装置,其特征在于,所述场聚焦效应的电推进装置还设有电源(9),所述电源(9)的一端与所述栅极(1)连接,另一端与所述场聚焦极(4)和发射极(5)均连接。
6.根据权利要求5所述的场聚焦效应的电推进装置,其特征在于,所述场聚焦极(4)和第二支撑(3)为一体结构,且通过钣金方法制成。
7.根据权利要求1至6任一所述的场聚焦效应的电推进装置,其特征在于,所述场聚焦效应的电推进装置还包括子基底(6);所述子基底(6)设置在所述基底(8)上,且所述第二支撑(3)通过所述子基底(6)与所述基底(8)连接;所述推进剂通道贯穿所述子基底(6)。
8.根据权利要求7所述的场聚焦效应的电推进装置,其特征在于,所述第一支撑(2)为绝缘材料制成。
9.根据权利要求7所述的场聚焦效应的电推进装置,其特征在于,所述场聚焦极(4)为金属材料制成;
或,所述场聚焦极(4)为硅基材料或玻璃材料制成,且所述场聚焦极(4)的表面镀有金属层。
10.根据权利要求8或9所述的场聚焦效应的电推进装置,其特征在于,所述场聚焦极(4)的厚度为0.04~0.2mm;
所述场聚焦极(4)的通孔的直径为0.15~0.5mm;
所述发射锥的尖端穿出所述场聚焦极(4)的距离为+0.1mm~-0.5mm。
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