[发明专利]一种漏水检测设备及具有该漏水检测设备的曝光机在审
申请号: | 201811282256.0 | 申请日: | 2018-10-29 |
公开(公告)号: | CN111103097A | 公开(公告)日: | 2020-05-05 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
主分类号: | G01M3/16 | 分类号: | G01M3/16 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 袁礼君;阚梓瑄 |
地址: | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 漏水 检测 设备 具有 曝光 | ||
本发明提供一种漏水检测设备及具有该漏水检测设备的曝光机,漏水检测设备用于对一装置进行漏水检测,漏水检测设备包括检测部和储液部。检测部包括漏液检测器,其与装置连接,当装置内的液体泄露时,漏液检测器能够被触发,并发出漏水信号。储液部与装置连接,能够容纳自装置泄露的液体。
技术领域
本发明涉及半导体制造领域,特别涉及一种具有漏水检测设备的曝光机。
背景技术
曝光机是半导体制造工艺中所使用的重要设备。如图1所示,曝光机通常包括曝光单元110、防震台120及电控柜130。曝光单元110支撑于防震台120上,电控柜130设置于防震台120的下方。曝光过程中,曝光单元110中的水可能会发生泄露,漏出的水会沿着防震台向下滴落到电控柜130上,从而造成设备短路、损毁,导致严重经济损失。并且,电控柜130的重新恢复时间较长(约花费十几小时),若购入新机,则订购周期较长(至少1周),且订购费高昂(至少上百万人民币)。可见,曝光机漏水将给整个制造设备带来严重的经济及时间损失。
因此,如何降低曝光机漏水带来的损失,实为半导体制造领域亟待解决的问题。
发明内容
基于上述问题,本发明提供了一种漏水检测设备及具有该漏水检测设备的曝光机,降低曝光机漏水带来的损失。
为达成上述目的,本发明提供一种漏水检测设备,用于对一装置进行漏水检测,漏水检测设备包括检测部和储液部。
检测部包括漏液检测器,其与装置连接,当装置内的液体泄露时,漏液检测器能够被触发,并发出漏水信号。储液部与装置连接,能够容纳自装置泄露的液体。
根据一实施例,漏液检测器包括带状传感器和一检测器,检测器能够对传感器提供电压以及对漏水信号进行收集放大处理。
根据一实施例,带状传感器围绕设置于至少部分装置的外周。
根据一实施例,带状传感器连续的围绕装置的整个外周。
根据一实施例,带状传感器与装置的外周紧密贴合。
根据一实施例,储液部包括蓄水槽,蓄水槽位于漏液检测器的下方,用于接收由装置泄露的液体。
根据一实施例,蓄水槽设置于至少部分装置的外周。
根据一实施例,蓄水槽连续的围绕装置的整个外周。
根据一实施例,蓄水槽的一侧与装置的外周紧密贴合。
根据一实施例,储液部还包括储水桶,用于接收来自蓄水槽的液体。
根据一实施例,储液部还包括导液管,导液管的两端分别与蓄水槽和储水桶连通,从而将蓄水槽内的液体导入储水桶内。
根据一实施例,蓄水槽的底部具有开孔,导液管的一端与开孔连通,储水桶位于蓄水槽的下方。
根据一实施例,检测部还包括警报器,其能够接收来自漏液检测器发出的漏水信号,并发出警报。
本发明另一方面,提供一种曝光机,其包括曝光单元、防震台、电控柜及如上述的漏水检测设备,曝光机支撑于防震台上,电控柜设置于防震台的下方,漏液检测器和储液部与曝光单元或防震台连接,当曝光单元内的液体泄露时,漏液检测器能够被触发,并发出漏水信号。
根据一实施例,漏液检测器围绕设置于至少部分曝光单元或防震台的外周,储液部围绕设置于至少部分曝光单元或防震台的外周。
本发明相较于现有技术的有益效果在于:发明的漏水检测设备能够及时检测到漏水,并收集漏水,同时实现了检测和阻漏,从而有效的保护曝光机的部件不会损坏,降低财产损失和设备停机时间。
附图说明
图1为现有的曝光机的示意图。
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