[发明专利]内嵌式触控显示面板及显示装置在审

专利信息
申请号: 201811282767.2 申请日: 2018-10-31
公开(公告)号: CN109358779A 公开(公告)日: 2019-02-19
发明(设计)人: 唐岳军;李雪云 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G06F3/047 分类号: G06F3/047
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 遮光金属层 触控 复用电极 触控显示面板 显示装置 遮光金属 金属块 内嵌式 复用 基板 像素开口率 同层设置 电连接 扫描线 数据线 光罩 申请
【权利要求书】:

1.一种内嵌式触控显示面板,其特征在于,包括:

基板;

遮光金属层,所述遮光金属层设置在所述基板上,所述遮光金属层包括遮光金属以及多根触控导线;以及

复用电极层,所述复用电极层设置在所述遮光金属层上,且所述复用电极层包括多个复用金属块,所述多个复用金属块与所述多根触控导线一一对应电连接。

2.根据权利要求1所述的内嵌式触控显示面板,其特征在于,所述遮光金属层与所述复用电极层之间还包括:依次层叠设置的第一绝缘层、晶体管层、第二绝缘层;

其中,所述第一绝缘层上设置有多个第一过孔,所述晶体管层上设置有多个第二过孔,所述第二绝缘层上设置有多个第三过孔,每一所述复用金属块均通过所述第一过孔、所述第二过孔以及所述第三过孔与对应的所述触控导线电连接。

3.根据权利要求2所述的内嵌式触控显示面板,其特征在于,所述复用金属块延伸至所述第一过孔、所述第二过孔以及所述第三过孔,并与对应的所述触控导线电连接。

4.根据权利要求3所述的内嵌式触控显示面板,其特征在于,所述第一过孔、所述第二过孔以及所述第三过孔同轴设置。

5.根据权利要求2所述的内嵌式触控显示面板,其特征在于,所述晶体管层包括:依次层叠设置的导电沟道子层、第三绝缘子层、栅极金属子层、第四绝缘子层、源/漏极金属子层;

其中,所述导电沟道子层用于形成晶体管的导电沟道,所述栅极金属子层用于形成晶体管的栅极,所述源/漏极金属子层用于形成晶体管的源/漏极;且所述遮光金属位于所述晶体管正下方。

6.根据权利要求5所述的内嵌式触控显示面板,其特征在于,所述源/漏金属子层还用于形成多个第一连接电极,所述第一连接电极延伸至所述第二过孔与所述第一过孔,并与对应的所述触控导线电连接;

所述复用金属块延伸至所述第三过孔,并与对应的所述第一连接电极电连接。

7.根据权利要求6所述的内嵌式触控显示面板,其特征在于,所述第一过孔与所述第二过孔同轴设置,且所述第一过孔与所述第二过孔不同轴设置。

8.根据权利要求5所述的内嵌式触控显示面板,其特征在于,所述第二过孔包括多个第一子过孔和多个第二子过孔,所述第一子过孔设置在所述第三绝缘子层上,所述第二子过孔设置在所述第四绝缘子层上;

其中,每一所述复用金属块均通过所述第一过孔、所述第一子过孔、所述第二子过孔以及所述第三过孔与对应的所述触控导线电连接。

9.根据权利要求8所述的内嵌式触控显示面板,其特征在于,所述源/漏金属子层还用于形成多个第二连接电极,所述栅极金属子层还用于形成多个第三连接电极;

其中,所述第二连接电极延伸至所述第二子过孔,并与对应的所述第三连接电极电连接,所述第三连接电极延伸至所述第一子过孔,并与对应的所述触控导线电连接;

所述复用金属块延伸至所述第三过孔,并与对应的所述第二连接电极电连接。

10.根据权利要求9所述的内嵌式触控显示面板,其特征在于,所述第三过孔、所述第二子过孔以及所述第一子过孔不同轴设置,且所述第一子过孔与所述第一过孔同轴设置。

11.根据权利要求1所述的内嵌式触控显示面板,其特征在于,所述内嵌式触控显示面板还包括多条扫描线以及多条数据线;所述触控导线设置在所述扫描线或所述数据线正下方。

12.根据权利要求1所述的内嵌式触控显示面板,其特征在于,所述遮光金属与所述触控导线绝缘隔离设置。

13.根据权利要求1所述的内嵌式触控显示面板,其特征在于,所述遮光金属与部分所述触控导线电连接。

14.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-13任一项所述的内嵌式触控显示面板。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司,未经武汉华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811282767.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top