[发明专利]一种随钻测量装置

权利要求书

1.一种随钻测量装置，其特征在于，所述装置包括：

保护套筒，其由一根独立的钻铤加工而成，所述保护套筒密封保护其内部结构以及器件；

中子线路骨架，其安装在所述保护套筒内上部；

密度线路骨架，其安装在所述保护套筒内下部，与所述中子线路骨架对接；

随钻补偿中子测量总成，其安装在所述中子线路骨架上；

随钻方位密度成像测量总成，其安装在所述密度线路骨架上。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述随钻补偿中子测量总成包括中子源、用于安置所述中子源的中子源室、中子源短源距探测器、中子源长源距探测器，其中：

所述中子源室安装在所述中子源短源距探测器上方且紧挨所述中子源短源距探测器，所述中子源室与所述中子源短源距探测器间由聚乙烯屏蔽体隔开；

所述中子源长源距探测器安装在所述中子源短源距探测器下方。

3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于：

所述中子源室作屏蔽处理以隔绝所述中子源室测量一侧与泥浆的接触；

所述中子源室外部安装有泥浆排除器。

4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述随钻方位密度成像测量总成包括伽马源、用于放置伽马源的放射性源室、短源距探测晶体、长源距探测晶体，其中：

所述放射性源室与所述短源距探测晶体、所述长源距探测晶体之间由钨镍铁合金屏蔽体隔开，所述钨镍铁合金屏蔽体加工有低密度能窗，并且与所述放射性源室的源准直孔相通。

5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述随钻方位密度成像测量总成还包括用于安装所述短源距探测晶体和所述长源距探测晶体的密度承压外壳，其中，在所述密度承压外壳与所述密度线路骨架之间安装有弹簧片。

6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括超声井径测量总成和/或方位总成。

7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述超声井径测量总成包括：

超声传感器，其安装在所述保护套筒外壁上；

超声波井径电路板，其安装在所述密度线路骨架上，位于所述随钻方位密度成像测量总成下部。

8.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述方位总成的方位传感器、所述随钻补偿中子测量总成中的中子He3管、所述随钻方位密度成像测量总成中的密度探测晶体以及所述超声井径测量总成中的超声传感器的中心线位于同一条直线上。

9.根据权利要求1～8中任一项所述的装置，其特征在于，所述装置还包括电池短节，所述电池短节安装在所述保护套筒下端，所述电池短节的下端与脉冲发生器直接相连接。

10.根据权利要求1～9中任一项所述的装置，其特征在于，所述装置还包括安全短节，所述安全短节安装在所述保护套筒上端。