[发明专利]一种显示面板和显示装置有效

专利信息
申请号: 201811290977.6 申请日: 2018-10-31
公开(公告)号: CN109410778B 公开(公告)日: 2021-01-15
发明(设计)人: 马扬昭 申请(专利权)人: 武汉天马微电子有限公司
主分类号: G09F9/33 分类号: G09F9/33;G09G3/32
代理公司: 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 代理人: 王刚;龚敏
地址: 430205 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 显示 面板 显示装置
【说明书】:

发明提供一种显示面板和显示装置。显示面板包括衬底基板、驱动晶体管、第一存储电容、第二存储电容;驱动晶体管包括有源区、栅极,栅极位于有源区远离衬底基板的一侧,栅极在衬底基板上的正投影覆盖有源区在衬底基板上的正投影;第一存储电容包括第一电极、第二电极,第二电极位于第一电极远离衬底基板的一侧,第二电极在衬底基板上的正投影覆盖第一电极在衬底基板上的正投影;第二存储电容包括第三电极、第四电极,第四电极位于有源区靠近衬底基板的一侧,第四电极在衬底基板上的正投影覆盖第三电极在衬底基板上的正投影;显示面板包括第一金属板;第一金属板重复用作栅极、第一电极、第三电极;第二电极与第四电极接入同一电位。

【技术领域】

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板和显示装置。

【背景技术】

图1是现有技术中显示面板100的平面示意图。图2是现有技术中显示面板100的剖面示意图。显示面板100包括半导体层POLY101、第一扫描线SCAN101、第二扫描线SCAN102、发射线EMIT101、参考线VREF101、第一金属板M101、电容电极层MC101、数据线DATA101、第一电源线PVDD101、衬底基板PI101、发光二极管。半导体层POLY101包括有源区AA101、其他有源区和连接线。半导体层POLY101的有源区AA101与第一金属板M101交叠构成驱动晶体管T103。半导体层POLY101的其他有源区与第一扫描线SCAN101、第二扫描线SCAN102、发射线EMIT101交叠构成第一晶体管T101、第二晶体管T102、第四晶体管T104、第五晶体管T105、第六晶体管T106、第七晶体管T107。电容电极层MC101与第一金属板M101交叠构成第一存储电容C101。存储电容C101位于驱动晶体管T103远离衬底基板PI101的一侧。驱动晶体管T103驱动发光二极管发光。

但是,数据线DATA101、第二扫描线SCAN102引起的寄生电容干扰驱动晶体管T103的驱动电流,串扰影响发光二极管的发光强度。

【发明内容】

为了解决上述问题,本发明提供一种显示面板和显示装置。

一方面,本发明提供一种显示面板,所述显示面板包括像素驱动电路,所述像素驱动电路包括衬底基板、驱动晶体管、第一存储电容、第二存储电容;

所述驱动晶体管包括有源区、栅极,所述栅极位于所述有源区远离所述衬底基板的一侧,所述栅极在所述衬底基板上的正投影覆盖所述有源区中的沟道区在所述衬底基板上的正投影;

所述第一存储电容包括第一电极、第二电极,所述第二电极位于所述第一电极远离所述衬底基板的一侧,所述第二电极在所述衬底基板上的正投影覆盖所述第一电极在所述衬底基板上的正投影;

所述第二存储电容包括第三电极、第四电极,所述第四电极位于所述有源区靠近所述衬底基板的一侧,所述第四电极在所述衬底基板上的正投影覆盖所述第三电极在所述衬底基板上的正投影;

所述显示面板包括第一金属层,所述第一金属层经过图案化形成第一金属板;

所述第一金属板重复用作所述栅极、所述第一电极、所述第三电极;

所述第二电极与所述第四电极接入同一电位。

可选地,所述驱动晶体管的沟道宽长比大于等于3/25并且小于等于3/15。

可选地,所述像素驱动电路包括第一电源线;

所述第一电源线位于所述第二电极远离所述衬底基板的一侧,所述第一电源线在所述衬底基板上的正投影与所述第二电极在所述衬底基板上的正投影相交;

所述第二电极与所述第一电源线采用第一导通孔连接。

可选地,所述第一电源线在所述衬底基板上的正投影与所述第四电极在所述衬底基板上的正投影相交;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉天马微电子有限公司,未经武汉天马微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811290977.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top