[发明专利]掩模板框架、掩模板及其制作方法、张网机

权利要求书

1.一种掩模板框架，其特征在于，包括中空的框架主体，所述框架主体上设置有多个第一对位标记和多个第二对位标记；所述第一对位标记与所述第二对位标记一一对应，且所述第一对位标记与所述第二对位标记无交叠；

所述第一对位标记设置于所述框架主体的一侧；所述第二对位标记为贯穿所述框架主体的通孔。

2.根据权利要求1所述的掩模板框架，其特征在于，所述框架主体包括中部具有开口区域的边框以及跨设于所述开口区域的承载条；

所述第二对位标记设置于所述承载条上，且位于所述开口区域。

3.根据权利要求2所述的掩模板框架，其特征在于，所述第一对位标记位于所述边框与所述承载条的重叠区域，且所述第一对位标记为贯穿所述承载条的通孔。

4.根据权利要求2所述的掩模板框架，其特征在于，所述第一对位标记位于所述边框与所述承载条的非重叠区域；所述第一对位标记设置于所述边框与所述承载条同侧的表面上。

5.根据权利要求2所述的掩模板框架，其特征在于，所述承载条为至少两根；

两根所述承载条分别设置于所述边框的相对两侧。

6.根据权利要求2-5任一项所述的掩模板框架，其特征在于，所述第一对位标记为四个，四个所述第一对位标记分别设置于所述边框的四个角处；

所述第二对位标记分别靠近与其对应的所述第一对位标记设置。

7.一种掩模板，其特征在于，包括掩模条以及权利要求1-6任一项所述的掩模板框架。

8.一种张网机，其特征在于，包括承载台、底部传感器、顶部传感器和处理器；

所述承载台用于承载权利要求1-6任一项所述的掩模板框架；

所述底部传感器设置于所述承载台的下方，所述底部传感器用于测量所述掩模板框架上的第二对位标记的坐标；

所述顶部传感器设置于所述承载台的上方，所述顶部传感器用于测量所述掩模板框架上一一对应的第一对位标记和所述第二对位标记之间的距离；

所述处理器用于根据所述第二对位标记的坐标，以及一一对应的第一对位标记和所述第二对位标记之间的距离，计算所述第一对位标记的坐标。

9.根据权利要求8所述的张网机，其特征在于，所述顶部传感器和所述底部传感器均为CCD。

10.一种掩模板的制作方法，其特征在于，包括：

根据权利要求1-6任一项所述的掩模板框架，通过张网机的底部传感器测量第二对位标记的坐标，并通过张网机的顶部传感器测量一一对应的第一对位标记和所述第二对位标记之间的距离；

根据所述第二对位标记的坐标，以及一一对应的第一对位标记和所述第二对位标记之间的距离，计算所述第一对位标记的坐标；

根据所述第一对位标记的坐标，将掩模条固定于所述掩模板框架上。