[发明专利]一种旋转轴气幕产生单元、气密封装置及其加工方法

权利要求书

1.一种气密封的气幕产生单元，其特征在于：包括导流面(113)和限流面(114)，所述的导流面(113)和限流面(114)构成四周封闭两端开口的气幕产生单元(110)，其中两端为进气端(111)和出气端(112)，所述的导流面(113)用于引导出气端(112)气流朝向旋转轴(300)的非密封端(302)喷射；导流面(113)与轴圆周面(310)的最小距离L1小于限流面(114)与轴圆周面(310)的最小距离L2，其中L1的范围为0.01-0.05mm。

2.根据权利要求1所述的一种气密封的气幕产生单元，其特征在于：所述的导流面(113)为斜面或者弧面。

3.根据权利要求1所述的一种气密封的气幕产生单元，其特征在于：

导流面(113)为斜面，导流面(113)与转动轴心(320)的夹角为α，α的范围为15-75°；

或者导流面(113)为弧面，位于出气端(112)的导流面(113)末端切线与转动轴心(320)的夹角为α，α的范围为15-75°。

4.根据权利要求1所述的一种气密封的气幕产生单元，其特征在于：导流面(113)经过出气端(112)延伸至旋转轴(300)的轴圆周面(310)边缘。

5.根据权利要求1-4任一项所述的一种气密封的气幕产生单元，其特征在于：进气端(111)的截面积大于出气端(112)的截面积。

6.一种旋转轴气密封装置，其特征在于：包括轴向定位机构(210)，该轴向定位机构(210)是与旋转轴(300)同轴的环形结构；所述轴向定位机构(210)内设置有如权利要求1-5任一项所述的气幕产生单元(110)和与之相连的供气单元(120)。

7.根据权利要求6所述的一种旋转轴气密封装置，其特征在于：所述的供气单元(120)包括：

主供气通道(121)，该主供气通道(121)与轴向定位机构(210)外部相连通，其用于为气密封的气流提供通道；

环形供气通道(122)，该环形供气通道(122)用于将主供气通道(121)的气流供给至气幕产生单元(110)，且环形供气通道(122)的截面积大于气幕产生单元(110)进气端(111)的截面积。

8.根据权利要求6所述的一种旋转轴气密封装置，其特征在于：所述的轴向定位机构(210)上开设有环形沟槽和径向沟槽，径向沟槽由环形沟槽延伸至定位机构内弧面(211)，轴向定位机构(210)的端面外侧安装有盖板(220)，盖板(220)内侧与环形沟槽构成环形供气通道(122)，盖板(220)内侧与径向沟槽构成气幕产生单元(110)。

9.一种旋转轴气密封装置的加工方法，其特征在于：包括以下步骤：

在轴向定位机构(210)上切出径向沟槽，该径向沟槽由环形沟槽内侧延伸至轴向定位机构(210)的定位机构内弧面(211)；

通过固定螺钉将盖板(220)固定于轴向定位机构(210)上，盖板(220)内侧与径向沟槽构成气幕产生单元(110)；轴向定位机构(210)的定位机构内弧面(211)的弧面半径为R1，盖板(220)的盖板内弧面(221)的弧面半径为R2，则R2R1，得到旋转轴气密封装置。

10.根据权利要求9所述的一种旋转轴气密封装置的加工方法，其特征在于：径向沟槽的深度由径向沟槽至定位机构内弧面(211)逐渐变浅，使得进气端(111)的截面积大于出气端(112)的截面积。