[发明专利]一种用于检测图形衬底的方法和装置

权利要求书

1.一种用于检测图形化处理的衬底的方法，包括如下步骤：

定义待分析衬底图形化表面自中心至边缘为多个独立的环形区域；

选择一光源提供光束照射衬底，通过光学测量仪获取衬底每个环形区域内的多个位置的反射率值；

通过一控制单元，依据获取的每个环形区域内的多个反射率值计算出每个环形区域内的反射率平均值和偏差值，将每个环形区域内的反射率平均值和偏差值与预设目标衬底反射率阈值一以及偏差值阈值一逐一相比较，判断所述待测晶片与所述目标晶片是否合格。

2.根据权利要求1所述的一种检测图形化处理的衬底的方法，其特征在于，所述偏差值的计算方式为，n值为每个环形区域的测量位置的数量，取值为1~n之间的任意整数值，为其中一个环形区域内的一个测量位置的反射率值；为一个环形区域内多个测量位置的平均反射率值。

3.根据权利要求1所述的一个检测图形化处理的衬底的方法，其特征在于，预设目标衬底反射率阈值一以及偏差值阈值一根据不同环形区域而可以不同或相同。

4.根据权利要求2所述的一种用于检测图形化处理的衬底的方法，其特征在于，进一步包括，依据所有环形区域的多个反射率平均值计算出一个衬底的总体反射率平均值和总体偏差值；一个总体反射率平均值和总体偏差值与预设目标衬底反射率阈值二以及反射率偏差值阈值二相比较，判断所述待测晶片与所述目标晶片是否合格。

5.根据权利要求4所述的一种检测图形化处理的衬底的方法，其特征在于，所有环形区域多个反射率平均值的总体偏差值计算方式为，值为定义的环形区域的数量，取值为1~之间的任意整数值，为其中一个环形区域的平均反射率值；为总体反射率平均值。

6.根据权利要求5所述的一种检测图形化处理的衬底的方法，其特征在于，预设目标衬底反射率阈值二可以与反射率阈值一相同或不同，偏差值阈值二可以与偏差值阈值一相同或不同。

7.根据权利要求1所述的一种用于检测图形化处理的衬底的方法，其特征在于，所述待测晶片是图形化衬底为透光性衬底表面具有多个独立的图形。

8.根据权利要求1所述的一种用于检测图形化处理的衬底的方法，其特征在于，其特征在于，所述的透光性衬底为蓝宝石衬底。

9.根据权利要求1所述的一种用于检测图形化处理的衬底的方法，其特征在于，所述图形化衬底为衬底表面具有透明绝缘层或增透膜或DBR层形成的多个独立的图形。

10.根据权利要求1所述的一种用于检测图形化处理的衬底的方法，其特征在于，所述每个环形区域内的多个位置的数量为四个以上。

11.根据权利要求1所述的一种用于检测图形化处理的衬底的方法，其特征在于，所述的检测可以自衬底最靠近中心的环形区域开始，结束于边缘或相反。

12.根据权利要求1-11任一项所述的一种用于检测图形化处理的衬底的方法，其特征在于，通过光学测量仪获取衬底每个环形区域内的多个位置的反射率值替换为获取的是每个环形区域内的多个位置的透光率值，通过多个环形区域内的多个透光率平均值和多个偏差值与预设目标衬底透光率阈值以及透光率偏差值阈值逐一相比较。