[发明专利]光线反射基座及其加工工艺

权利要求书

1.一种光线反射基座，其特征在于，所述反射基座包括支撑部和反射部，所述反射部为一圆盘状的中心反射区，设置在所述支撑部的中间位置；所述支撑部从边缘位置向中心位置逐渐降低，中心位置为最低点，所述支撑部包括多个反射层，每个反射层所处的高度不同；每个反射层上都设置相同大小的四角锥形，反射层高度的不同，四角锥形结构的体积也不同，四角锥形结构的体积从边缘位置向中心位置逐渐减小，所述四角锥形结构从最上端到最下端的顶角逐渐增大；反射部的中心位置设有卡接宝石的卡接口；

所述反射层包括第一反射层、第二反射层和第三反射层，位于第一反射层上的四角锥形与位于第三反射层上的四角锥形对角相连，形成一连接点，所述连接点位于第二反射层上；

所述第二反射层上的相邻的四角锥形采用对角相连的方式相互抵接在一起，抵接位置与所述连接点重合。

2.根据权利要求1所述的光线反射基座，其特征在于，所述四角锥形的侧面为三角形结构，所述四角锥形的底部固定在所述反射层上，所述四角锥形的侧面顶角的范围为50°～70°，所述四角锥形的侧面底角范围是55°～65°。

3.根据权利要求1所述的光线反射基座，其特征在于，所述支撑部还设置有支撑柱，所述支撑柱设置有多个，对称设置在支撑部上，围绕着所述中心反射区，所述支撑柱为圆柱型结构，凸出于支撑部所处平面。

4.根据权利要求1所述的光线反射基座，其特征在于，所述反射层设置有多个，所述反射层由第一反射层、第二反射层与第三反射层作为整体循环重复设置，共同组成反射层。

5.根据权利要求1所述的光线反射基座，其特征在于，还包括基于所述光线反射基座实现的光线反射基座的加工工艺，包括以下步骤：

定型：将一定质量百分比的黄金、银、镍和锌进行加热融合，待混合均匀后进行定型冷却；

打磨：待所有材料在模具中冷却成型后，采用钻石刀对圆柱形的顶面进行刻画打磨，刻画形成反射部；在使用钻石刀进行刻画时，钻石刀不经过模具顶面的圆心点，围绕着圆心进行车花工艺进行切割，根据实际需求，切割的次数为2N次，N≥6；

镀层：完成打磨后，进行电镀处理，采用铑或者铂金进行金属电镀。

6.根据权利要求5所述的光线反射基座，其特征在于，在进行打磨步骤的同时，需要进行润滑和冷却处理：采用条状油石加煤油作为冷却剂和润滑剂。