[发明专利]一种纳米晶三价铬复合镀层用镀液及复合镀层的制备方法

权利要求书

1.一种纳米晶三价铬复合镀层用镀液，其特征在于：所述的镀液的质量份数组成如下：三价铬溶液：18～38g/L；复合添加剂：15～45g/L；缓冲剂：80～240g/L；催化剂：10～40g/L；所述的复合添加剂为SiO₂，SiO₂颗粒的直径为10～30nm。

2.根据权利要求1所述的纳米晶三价铬复合镀层用镀液，其特征在于：所述镀液的质量份数组成如下：三价铬溶液：18～28g/L；复合添加剂：15～25g/L；缓冲剂：80～120g/L；催化剂：10～20g/L。

3.根据权利要求1所述的纳米晶三价铬复合镀层用镀液，其特征在于：所述镀液的质量份数组成如下：三价铬溶液：28～38g/L；复合添加剂：25～45g/L；缓冲剂：120～240g/L；催化剂：20～40g/L。

4.根据权利要求1所述的纳米晶三价铬复合镀层用镀液，其特征在于：所述镀液的质量份数组成如下：三价铬溶液：28g/L；复合添加剂：35g/L；缓冲剂：120g/L；催化剂：20g/L。

5.一种使用权利要求1～4任一项权利要求所述的纳米晶三价铬复合镀层用镀液的复合镀层的制备方法，其特征在于，具体步骤如下：

步骤1、镀前预处理；

步骤2、三价铬喷射电沉积复合工艺，具体工艺参数如下：

①对镀液进行预热，温度为35～45℃；

②调整喷枪距离阳极距离为5-8mm；

③镀液流动速度为2.7-3.5L/min；

④电流密度为40-65A/dm²；

⑤喷枪的移动速度为1.2-1.8mm/s；

⑥喷镀时间为25min～75min；

所述喷射电沉积复合工艺中喷射阴极基体材料为直径25mm，厚10mm的圆柱形黄铜；阳极为石墨。

6.根据权利要求5所述的复合镀层的制备方法，其特征在于：所述镀前预处理采用刷镀的方式进行，具体流程为：砂纸打磨→电净→2号活化液活化→3号活化液活化，在每道工序结束后用去离子水冲洗工件表面；砂纸打磨选用2000^#砂纸，去除基体表面的毛刺和锈蚀层。

7.根据权利要求6所述的复合镀层的制备方法，其特征在于：所述电净的工艺参数为：电压：+8～14V；时间：30s；速度：9～18m/min。

8.根据权利要求6所述的复合镀层的制备方法，其特征在于：所述2号活化液活化的工艺参数为：电压：-8～14V；时间：30～60s；速度：6～10m/min。

9.根据权利要求6所述的复合镀层的制备方法，其特征在于：所述3号活化液活化的工艺参数为：电压：-18～25V；时间：30～60s；速度：4～8m/min。