[发明专利]一种高规整度原子气室制造方法

权利要求书

1.一种高规整度原子气室制造方法，其特征在于，在室温下，利用低温键合技术将事先加工好的气室支架与光学窗口依次键合，并加工原子气室加热面和冲排气嘴，其具体步骤如下：

步骤1：工件准备

检查第一光学窗口(1)、第二光学窗口(2)、第一支架(3)和第二支架(4)所有工作面满足低温键合要求；

步骤2：键合第一支架(3)、第二支架(4)

将第一支架(3)、第二支架(4)的底面低温键合在第一光学窗口(1)上；

步骤3：研抛第一键合面(5)

研抛第一支架(3)和第二支架(4)的第一键合面(5)至满足键合要求；

步骤4：键合第一光学窗口(1)

将第一光学窗口(1)低温键合在第一键合面(5)上；

步骤5：研抛第二键合面(6)

研抛第一支架(3)和第二支架(4)及第一光学窗口(1)侧面的第二键合面(6)至满足键合要求；

步骤6：键合第二光学窗口(2)

将第二光学窗口(2)低温键合在第二键合面(6)上；

步骤7：研抛第三键合面(7)

研抛第一支架(3)和第二支架(4)及第一光学窗口(1)另一侧面的第三键合面(7)满足键合要求；

步骤8：键合第二光学窗口(2)

将第二光学窗口(2)低温键合在第三键合面(7)上；

步骤9：固化

对键合好的工件进行固化；

步骤10：外表面处理

对工件外进行研抛以提高尺寸精度，对窗口进行镀膜以提高透过率；

步骤11：减薄

对工件包含第一光学窗口(1)、第二光学窗口(2)、第一支架(3)的一侧进行减薄，形成气室加热面(8)；

步骤12：铣型

对工件包含第一光学窗口(1)、第二光学窗口(2)、第二支架(4)的一侧进行铣型，形成气室充排气面(9)。

2.根据权利要求1所述的一种高规整度原子气室制造方法，其特征是，所述高规整度原子气室为高规整度长方体结构，其内包含一个高规整度长方体空腔。

3.根据权利要求2所述的一种高规整度原子气室制造方法，其特征是，所述第一光学窗口(1)为长方形，共2件，其宽与长方体空腔宽一致。

4.根据权利要求2所述的一种高规整度原子气室制造方法，其特征是，所述第二光学窗口(2)为长方形，共2件，其宽与气室外轮廓宽度一致。

5.根据权利要求2所述的一种高规整度原子气室制造方法，其特征是，所述第一支架(3)为长方体结构，其宽与第一光学窗口(1)相等，其高与长方体空腔高度一致。

6.根据权利要求2所述的一种高规整度原子气室制造方法，其特征是，所述第二支架(4)为长方体结构，外轮廓与第一支架(3)完全相同，其中心设置有通孔(10)。

7.根据权利要求2所述的一种高规整度原子气室制造方法，其特征是，所述第一支架(3)与第二支架(4)间距为长方体空腔三维长度。

8.根据权利要求2所述的一种高规整度原子气室制造方法，其特征是，所述第一键合面(5)由第一支架(3)和第二支架(4)的顶面组成。

9.根据权利要求2所述的一种高规整度原子气室制造方法，其特征是，所述第二键合面(6)、第三键合面(7)分别由第一支架(3)、第二支架(4)和第一光学窗口(1)的两侧侧面组成。