[发明专利]五通道多色滤光片的光学膜层制备方法

权利要求书

1.一种五通道多色滤光片的光学膜层制备方法，其特征在于：

包括如下步骤：

S1：以蓝宝石为基底，采用吸尘器清除真空室内的杂质，用脱脂纱布蘸无水乙醇擦拭干净真空室的内壁，再先后采用无水丙酮和无水乙醇分别对基底进行微波超声15min，并用脱脂棉将基底擦拭干净，最后将干净的基底安装到夹具上并快速装入真空室，抽真空至3×10^-5Torr；

S2：将基底加热至200℃，并保持30min；

S3：采用离子束轰击的方式清洗基底10min；

S4：采用离子束辅助的电子枪蒸发法在基底的一侧逐层交替沉积氧化钛膜层和二氧化硅膜层形成膜系1，在基底的另一侧逐层交替沉积氧化钛膜层和二氧化硅膜层形成膜系2、膜系3、膜系4、膜系5和膜系6；

S5：待基底自然冷却至室温，取出制备得到的产品；

S6：采用分光光度计在300K的低温环境下对产品进行性能测试，并按照航天部标准“QJ1697-89”中关于膜层表面质量、附着力和环境性的试验要求进行试验。

2.根据权利要求1所述的五通道多色滤光片的光学膜层制备方法，其特征在于：所述步骤S1至S6均采用型号为Intergrity-39的全自动光学镀膜机系统制备。

3.根据权利要求1所述的五通道多色滤光片的光学膜层制备方法，其特征在于：在所述步骤S3中采用的离子源型号为霍尔源型的CC-105，其中离子源工作气体为氩气，气体流量为17sccm。

4.根据权利要求1所述的五通道多色滤光片的光学膜层制备方法，其特征在于：在所述步骤S4中采用的离子源型号为霍尔源型的CC-105，其中离子源工作气体为氩气，气体流量为17sccm，氧化钛膜层的沉积速率保持为1.0nm/s，二氧化硅膜层的沉积速率保持为0.8nm/s。

5.根据权利要求1所述的五通道多色滤光片的光学膜层制备方法，其特征在于：在所述步骤S4中，采用石英晶体膜厚控制仪对氧化钛膜层和二氧化硅膜层的厚度进行监控。

6.根据权利要求1所述的五通道多色滤光片的光学膜层制备方法，其特征在于：在所述步骤S4中，所述膜系1的结构为(0.5lh0.5l)^12(0.18h0.36l0.18h)^10，中心波长为1025nm，所述膜系2的结构为(0.5lh0.5l)^12(0.60l1.20h0.60l)^9(0.75l1.5h0.75l)^8，中心波长为600nm，所述膜系3的结构为(0.60l1.20h0.60l)^7(0.495l0.99h0.495l)^13(0.305h0.610l0.395h)^14，中心波长为680nm，所述膜系4的结构为(0.50l1.0h0.50l)^13(0.330h0.660l0.330h)^13(0.30h0.60l0.30h)^5，中心波长为758nm，所述膜系5的结构为(0.50h1.00l0.50h)^14(0.38h0.76l0.38h)^10，中心波长为648nm，所述膜系6的结构为(0.5lh0.5l)^12，中心波长为928nm，最后采用Macleod软件对膜系的厚度进行优化。

7.根据权利要求1所述的五通道多色滤光片的光学膜层制备方法，其特征在于：在所述步骤S6中，采用的分光光度计的型号为Lambda900，并用UVWINLAB软件对所测得的滤光片的透射光谱进行计算。