[发明专利]一种离子注入载片装置

权利要求书

1.一种离子注入载片装置，包括基座(1)、旋转云台(2)、载片基盘(3)、滑动夹具(4)，其特征在于：该离子注入载片装置实现硅片的单片稳定机械夹持，并且其载片基盘可绕中心轴旋转，基台上设计有水冷结构，能够满足试验冷却要求；该离子注入载片装置能够实现大角度角度离子注入，能够实现全自动装载。

2.根据权利要求1所述的一种离子注入载片装置，基座(1)能够为旋转云台提供支撑，能够提供载片基台与注入轴线的角度变化，满足注入工艺对角度的要求。

3.根据权利要求1所述的一种离子注入载片装置，旋转云台(2)通过基座主轴安装在基座(1)上，并且基座主轴与该离子注入载片装置垂直安装方向成45°，这样既能满足离子注入不同角度注入要求，又节约整体载片装置所占空间，具有运动平稳，可控精度高，结构经凑等特点。

4.根据权利要求1所述的一种离子注入载片装置，载片基盘(3)通过螺钉固定在旋转云台(2)的运动主轴上，通过电机驱动及光电编码器反馈控制，实现载片基台绕中心轴精确运动。

5.根据权利要求1所述的一种离子注入载片装置，滑动夹具(4)通过顶杆安装在旋转云台(2)的顶轴上，滑动夹具(4)的三个夹持爪通过滑杆嵌在载片基盘(3)上，其能够将顶轴的直线运动转化成垂直于顶轴的夹持运动，并且滑动夹具的夹持爪具有一定的柔性，能够避免硅片因夹持而造成破坏。