[发明专利]一种基于共线天线阵辐射理论构建可控的光针阵列方法有效

专利信息
申请号: 201811311295.9 申请日: 2018-11-06
公开(公告)号: CN109343290B 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 余燕忠;曾雨婷 申请(专利权)人: 泉州师范学院
主分类号: G02F1/29 分类号: G02F1/29
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 蔡学俊
地址: 362000 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 共线 天线阵 辐射 理论 构建 可控 阵列 方法
【权利要求书】:

1.一种基于共线天线阵辐射理论构建可控的光针阵列方法,其特征在于:包括以下步骤:

步骤S1:采用两个高数值孔径透镜组成4π聚焦系统;

步骤S2:在步骤S1的4π聚焦系统中,以其焦点为中心并沿z轴放置一虚拟共线天线阵;

步骤S3:所述虚拟共线天线阵从4π聚焦系统焦点向外辐射电场,其电场由两个高数值孔径物镜收集并传播到透镜的光瞳平面上,并通过求解逆向问题推导出光瞳平面上的场分布

步骤S4:以光瞳平面上的场分布作为光瞳平面处的入射光场,反向聚焦到4π聚焦系统的焦点处,在焦区附近得到具有预定特性的光针阵列;

步骤S2中,所述虚拟共线天线阵由N个阵元构成,并沿z轴排列,每个阵元上的电流分布和方向均相同;若第n个阵元以z=zn为中心,长度为ln,并且在其长度上的归一化电流分布为i(z')和输入电流为In,则虚拟共线阵中第n个阵元的辐射场为:

式中,θ表示从z轴测量的辐射角,β=2π/λ,λ为波长;式(1)是电流分布辐射方向图和激励电流的幅度与相位的乘积,最后一项因子表示相对于原点的空间相差;

步骤S3中,所述虚拟共线天线阵从4π聚焦系统焦点向外辐射的电场,即虚拟共线天线阵的远区电场的表达式为:

式中,C=jωμexp(-jβr)/4πr,θ表示从z轴测量的辐射角,是沿θ方向的单位矢量,ω表示圆频率,μ表示磁导率,r表示光瞳平面的径向坐标;

当每个阵元上的电流分布是均匀恒定时,即In=I0,i(z')=1,则虚拟共线天线阵的远区电场表达式为:

步骤S3中,通过求解逆向问题推导出光瞳平面上的场分布具体为:设所述高数值孔径透镜满足亥姆霍兹条件r=f tanθ,其中r和f分别表示光瞳平面中的径向坐标和透镜的焦距,则由此条件给出切趾函数于是,光瞳平面上的场分布由下式计算得到:

步骤S4中,焦区附近的光针阵列的电场分布由Richards-Wolf矢量衍射积分公式计算得到:

式中,A为幅度常数,Er(r,z)和Ez(r,z)分别是观察点处的径向场和纵向场分量,θmax表示透镜的最大辐射角,J1(krsinθ)表示一阶贝塞尔函数,J0(krsinθ)表示零阶贝塞尔函数,k表示波数。

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