[发明专利]一种显微成像辐射校准基片及其制备方法

说明书

本发明实施例提供一种显微成像辐射校准基片及其制备方法，该基片包括：积分球、若干个光源、光源驱动控制电路和基板，其中，积分球的底端位于基板上，积分球的顶端处设置第一通孔，若干个光源发出的光能直接或者间接照射到积分球的内壁，每一光源可直接或者间接连接至光源驱动控制电路，光源驱动控制电路可直接或间接与基板连接。本发明实施例提供的一种显微成像辐射校准基片及其制备方法，制备多个子基片分别实现积分球、光源、光源驱动控制电路等部件的整体或者局部功能，依次堆叠这些子基片后可构建成第一通孔处具有均匀辐射亮度的基片，以满足显微成像设备辐射校准需求。

技术领域

本发明实施例涉及显微成像辐射校准技术领域，尤其涉及一种显微成像辐射校准基片及其制备方法。

背景技术

显微镜光辐射校准是一项极具有挑战性的问题。随着显微分辨率越来越高，往往需要在微米级别的空间上产生一个标准的光辐射场，以校准数万至数千万个探测单元。

常规的显微镜光辐射校准用基片一般采用微弱发光板或者化学物质基片进行。

对于化学物质基片，采用化学发光时，其存在问题在于随着化学物质的消耗，发光值存在明显的衰减，量值不稳定，且当涂抹不均匀时，发光均匀性存在明显问题。当采用微弱发光板时，微弱发光板的表面微结构使得存在表面发光层次多，干扰多，发光不均匀的缺点。由于发光不均匀，导致无法实现高准确度光辐射场校准。

发明内容

本发明实施例提供一种显微成像辐射校准基片及其制备方法，用以解决现有技术中基片发光不均匀，无法实现高准确度光辐射场校准的问题。

本发明实施例提供一种显微成像辐射校准基片，包括：积分球、若干个光源、光源驱动控制电路和基板，其中，所述积分球的底端位于所述基板上，所述积分球的顶端处设置第一通孔，所述若干个光源发出的光能直接或者间接照射到所述积分球的内壁，所述若干个光源中的每一光源直接或者间接连接至所述光源驱动控制电路，所述光源驱动控制电路与所述基板直接或者间接连接。

本发明实施例提供一种显微成像辐射校准基片的制备方法，包括：

校准基片由第一子基片、第二子基片和第三子基片按照顺序堆叠而成；

所述第一子基片的上设置第一通孔，所述第一通孔的上下表面均为圆形且上表面圆的直径小于所述第一通孔下表面圆的直径，所述第一通孔的下表面侧设置一矩形空心槽，所述矩形空心槽与所述第一通孔连通；

所述第二子基片的上表面设置一凹槽，所述凹槽的一侧设置第二通孔，所述第一通孔和所述凹槽组成积分球，所述第二通孔与所述矩形空心槽部分重叠；

所述第三子基片上设置驱动控制电路和若干个光源，所述驱动控制电路用于驱动和控制所述若干个光源发光，所述若干个光源发出的光经过所述第二通孔后进入所述矩形空心槽，最后进入所述积分球内，被均匀化后从所述第一通孔的上表面射出。

本发明实施例提供的一种显微成像辐射校准基片及其制备方法，通过制备多个子基片分别实现积分球、光源、光源驱动控制电路等部件的整体或者局部功能，依次堆叠这些子基片后可构建成第一通孔处具有均匀辐射亮度的基片，以满足显微成像设备辐射校准需求。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的一种显微成像辐射校准基片的结构示意图；

图2为本发明实施例中一种显微成像辐射校准基片的俯视结构示意图；

图3为本发明实施例一种显微成像辐射校准基片制备方法的流程图；