[发明专利]彩膜基板及其制备方法、显示器件及其制备方法

权利要求书

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括彩膜衬底、位于所述彩膜衬底上的若干个黑矩阵，以及彩膜层，相邻的两个所述黑矩阵之间均具有所述彩膜层；

所述彩膜层由包括CF色阻材料和光散射颗粒的原料制成。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜层包括层叠设置的由包括所述光散射颗粒的原料制成的光散射膜和由CF色阻材料制成的CF色阻层，所述光散射膜位于所述CF色阻层与所述彩膜衬底之间。

3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述光散射膜还包括透明聚合物，所述透明聚合物选自PMMA树脂或PS树脂。

4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜层由所述CF色阻材料和所述光散射颗粒组成的混合材料制成。

5.根据权利要求1-4任一项所述的彩膜基板，其特征在于，所述光散射颗粒选自二氧化钛、二氧化镁和二氧化锆中的一种或者多种。

6.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

于彩膜衬底上制作若干个黑矩阵；

于相邻的两个所述黑矩阵之间均形成彩膜层，即得彩膜基板，所述彩膜层由包括CF色阻材料和光散射颗粒的原料制成。

7.根据权利要求6所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，于相邻的两个所述黑矩阵之间均形成彩膜层的步骤具体包括：

于相邻的两个所述黑矩阵之间均形成由包括光散射颗粒的原料制成的光散射膜；

于所述光散射膜上沉积CF色阻材料，形成CF色阻层，即得所述彩膜层。

8.一种权利要求6所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，于相邻的两个所述黑矩阵之间均形成彩膜层的步骤具体包括：

将所述光散射颗粒分散于所述CF色阻材料中，得混合材料；

于相邻的两个所述黑矩阵之间均沉积所述混合材料，形成彩膜层。

9.一种显示器件，其特征在于，包括：

显示基板；

封装结构，设于显示基板上；

权利要求1-5任一项所述的彩膜基板，设于所述封装结构上。

10.一种显示器件的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

于显示基板上制作封装结构；

采用权利要求6-8任一所述方法制作彩膜基板；

将所述彩膜基板远离所述彩膜衬底的表面与所述封装结构对组，得到显示器件。