[发明专利]X射线荧光光度计有效
申请号: | 201811312657.6 | 申请日: | 2018-11-06 |
公开(公告)号: | CN109752402B | 公开(公告)日: | 2023-08-18 |
发明(设计)人: | U.瓦尔德施莱格;R.A.塔格莱贝尔丹 | 申请(专利权)人: | 布鲁克纳米有限责任公司 |
主分类号: | G01N23/223 | 分类号: | G01N23/223 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 毕铮;闫小龙 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 射线 荧光 光度计 | ||
1.用于测量由目标(7)发射的X射线荧光的X射线荧光XRF光度计(10),所述XRF光度计(10)包括:
具有发射发散的X射线波束(3a)的阳极(2)的X射线管(1);
被配置成将发散的X射线波束(3a)聚焦在目标(7)上的毛细管透镜(6);
定位在X射线管(1)的阳极(2)与毛细管透镜(6)之间并且包括至少一个针孔(9a,9b)的孔径系统(4);以及
被配置用于检测由目标(7)发射的X射线荧光辐射的检测器(8),
其中所述至少一个针孔(9a,9b)被配置用于插入到发散的X射线波束(3a)中并且用于减小阳极(2)与毛细管透镜(6)之间的发散的X射线波束(3a)的波束截面(5a);
其中所述XRF光度计还包括控制单元,被配置用于通过经由孔径系统(4)控制发散的X射线波束(3a)的波束截面(5a),来适配所述XRF光度计的焦深dF,
其中控制单元还被配置用于基于目标(7)的形貌和/或在X和Y方向中的至少一个上扫描目标(7)的同时适配所述XRF光度计(10)的焦深dF。
2.权利要求1所述的XRF光度计(10),其中将毛细管透镜(6)的前焦点放置在阳极(2)处。
3.权利要求1或2所述的XRF光度计(10),其中X射线管(1)是微聚焦管和/或其中XRF光度计(10)是微XRF光度计。
4.权利要求1或2所述的XRF光度计(10),
其中毛细管透镜(6)具有遵循以下等式的入口孔径(11)、前焦距和前孔径角α:并且其中,前焦距对应于入口孔径(11)与阳极(2)之间的距离,和/或
其中毛细管透镜(6)具有遵循以下等式的出口孔径(12)、后焦距和后孔径角β:并且其中后焦距对应于出口孔径(12)与目标(7)之间的距离。
5.权利要求1或2所述的XRF光度计(10),其中孔径系统(4)包括可调节尺寸的至少一个针孔(9a,9b)。
6.权利要求1或2所述的XRF光度计(10),其中孔径系统包括旋转器(4)或滑动器,所述旋转器(4)或滑动器每一个具有不同尺寸的多个针孔(9a,9b),所述多个针孔(9a,9b)每一个被配置用于单独地插入到发散的X射线波束(3a)中。
7.权利要求6所述的XRF光度计(10),其中旋转器(4)或滑动器还包括用于在频谱上修改发散的X射线波束(3a)的至少一个滤波器。
8.权利要求6所述的XRF光度计(10),还包括具有用于在频谱上修改发散的X射线波束(3a)的至少一个滤波器的附加旋转器或滑动器。
9.用于调节X射线荧光XRF光度计(10)的焦深dF的方法,所述XRF光度计(10)包括具有发射发散的X射线波束(3a)的阳极(2)的X射线管(1)、被配置成将发散的X射线波束(3a)聚焦在目标(7)上的毛细管透镜(6)、定位在X射线管(1)的阳极(2)与毛细管透镜(6)之间并且包括至少一个针孔(9a,9b)的孔径系统(4)、以及被配置用于控制孔径系统并用于执行以下步骤的控制单元:
将所述至少一个针孔(9a,9b)之一插入在阳极(2)与毛细管透镜(6)之间的发散的X射线波束(3a)中;
利用所述至少一个针孔(9a,9b)之一减小发散的X射线波束(3a)的截面和毛细管透镜(6)的前孔径角α;
增加XRF光度计(10)的焦深dF;
基于目标(7)的形貌估计要求的目标焦深;以及
基于所估计的目标焦深设定XRF光度计(10)的焦深dF。
10.权利要求9所述的方法,控制单元还执行以下步骤:
在X和Y方向中的至少一个上扫描目标(7);以及
在扫描目标(7)的同时适配XRF光度计的焦深dF。
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