[发明专利]一种电磁屏蔽膜的制备方法在审
| 申请号： | 201811313412.5 | 申请日： | 2018-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN109743872A | 公开（公告）日： | 2019-05-10 |
| 发明（设计）人： | 张文杰 | 申请（专利权）人： | 睿惢思工业科技（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | H05K9/00 | 分类号： | H05K9/00 |
| 代理公司： | 北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11638 | 代理人： | 王新爱 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市工业园*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 电磁屏蔽膜 导电网栅 暗化 制备 透明基底表面 化学反应 网格状凹槽 导电银浆 气体氛围 均匀度 批量化 良率 固化 填充 制作 | ||
【权利要求书】：
1.一种电磁屏蔽膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：在透明基底表面制作凹槽结构层，凹槽结构层上分布有网格状凹槽；将导电银浆填充在网格状凹槽内固化形成导电网栅；利用气体与导电网栅表面发生化学反应形成暗化层。
2.根据权利要求1所述的一种电磁屏蔽膜的制备方法，其特征在于：所述导电网栅的线宽度1～20um，厚度1～20um。
3.根据权利要求1所述的一种电磁屏蔽膜的制备方法，其特征在于：所述网格状凹槽通过压印制得。
4.根据权利要求1所述的一种电磁屏蔽膜的制备方法，其特征在于：所述气体为氧气与硫化氢混合物。
5.根据权利要求1所述的一种电磁屏蔽膜的制备方法，其特征在于：所述网格状凹槽的图形为六边形、菱形或无规则形。
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