[发明专利]一种具有高强度防护带的分离膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201811313799.4 申请日: 2018-11-06
公开(公告)号: CN111135726A 公开(公告)日: 2020-05-12
发明(设计)人: 王俊 申请(专利权)人: 王俊
主分类号: B01D69/10 分类号: B01D69/10;B01D69/02;B01D67/00
代理公司: 厦门律嘉知识产权代理事务所(普通合伙) 35225 代理人: 张辉;温洁
地址: 450000 河南省郑州*** 国省代码: 河南;41
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 具有 强度 防护 分离 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种具有高强度防护带的分离膜,其特征在于:包括由外至内依次设置的膜层、防护带和支撑层,所述支撑层为由阳离子改性纤维织造而成的支撑管,所述防护带为由阴离子共聚物形成的致密层。

2.如权利要求1所述的一种具有高强度防护带的分离膜,其特征在于:所述的膜层由阴离子共聚物、高分子膜材料和致孔剂混合制成,所述的阴离子共聚物由以下重量配比的原料制成:100份溶剂、5-7份反应单体A、3-5份反应单体B和0.2-0.3份引发剂;制得的阴离子共聚物与20-25份高分子膜材料及2-5份致孔剂混合制成所述膜层;所述的反应单体A为加急丙烯酸甲酯或丙烯酸甲酯,反应单体B为2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸或甲基丙烯酸。

3.如权利要求1所述的一种具有高强度防护带的分离膜,其特征在于:所述膜层的厚度为80-120um。

4.如权利要求1所述的一种具有高强度防护带的分离膜,其特征在于:所述的高分子膜材料为聚偏氟乙烯或聚氯乙烯或聚醚砜。

5.如权利要求1所述的一种具有高强度防护带的分离膜,其特征在于:所述的阴离子共聚物为P(MMA-co-AMPS)或P(MA-co-MAA)或P(MA-co-AMPS)。

6.如权利要求1所述的一种具有高强度防护带的分离膜,其特征在于:所述的阳离子改性纤维为阳离子涤纶长丝。

7.如权利要求1所述的一种具有高强度防护带的分离膜,其特征在于:所述防护带的厚度为20-30um。

8.如权利要求1-7中任一项所述具有高强度防护带的分离膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

步骤1:配置具有阴离子集基团的铸膜液:在100份60-85℃的溶剂中加入以下重量份数的原料:5-7份反应单体A、3-5份反应单体B和0.2-0.3份引发剂,搅拌下聚合反应4-8小时,制备成阴离子共聚物;将20-25份高分子膜材料和2-5份致孔剂加入到上述溶剂中,在40-80℃的条件下搅拌6-12小时,溶解均匀后停止搅拌,静置脱泡,得到具有阴离子基团的铸膜液;反应单体A为加急丙烯酸甲酯或丙烯酸甲酯,反应单体B为2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸或甲基丙烯酸;

步骤2:制造具有阳离子基团的支撑管:采用阳离子改性纤维织造成外径1-2.5mm,内径0.5-1.5mm的中空支撑管;

步骤3:将阴离子铸膜液喷涂到阳离子支撑管上,经过水浸泡固化制成分离膜,固化好的分离膜经过裁剪后浸泡保护液6-12小时,而后在60-80℃的条件下干燥4小时,在阴离子铸膜液和阳离子支撑管的两相交界处,由于阴阳离子的强相互作用,使分离膜中间形成高强度的防护带。

9.如权利要求8所述的具有高强度防护带的分离膜的制备方法,其特征在于:步骤1中的引发剂为偶氮二异丁腈或偶氮二异庚腈或过氧化二苯甲酰,溶剂为N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮中的一种,致孔剂为聚乙烯吡咯烷酮或聚乙二醇或聚乙烯吡咯烷酮与聚乙二醇的混合物。

10.如权利要求8所述的具有高强度防护带的分离膜的制备方法,其特征在于:步骤2中的织造方式为编织或钩织,步骤3中所用的保护液为丙三醇、酒精和水的混合液,重量份数比为:丙三醇:酒精:水=20-35:5-10:55-75。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于王俊,未经王俊许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811313799.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top