[发明专利]用于加热还原剂的系统

权利要求书

1.一种后处理系统，包括：

还原剂源，其被配置成储存还原剂；

接头，其被配置成从所述还原剂源接收还原剂；

配给泵模块，其被配置成从所述接头接收还原剂，并且选择性地将还原剂提供到第一管道；

阀组件，其被配置成从所述第一管道接收还原剂，所述阀组件在第一状态和第二状态之间是可操作的，在所述第一状态下，所述阀组件将还原剂提供到所述接头，在所述第二状态下，所述阀组件将还原剂提供到第二管道；和

配给模块，其被配置成当被所述阀组件提供还原剂时从所述第二管道接收还原剂，所述配给模块被配置成当被所述阀组件提供还原剂时向废气配给还原剂。

2.根据权利要求1所述的后处理系统，其中，所述配给泵模块包括：

入口室，其被配置成从所述接头接收还原剂；

泵，其被配置成从所述入口室接收还原剂并将还原剂提供到所述第一管道；和

加热机构，其靠近所述入口室定位，所述加热机构被配置成加热所述入口室内的还原剂。

3.根据权利要求2所述的后处理系统，其中，所述加热机构被配置成在所述阀组件处于所述第一状态下时加热所述入口室内的还原剂。

4.根据权利要求3所述的后处理系统，其中，所述阀组件在所述第一状态下将还原剂仅提供到所述接头。

5.根据权利要求2所述的后处理系统，其中，所述加热机构被包含在所述泵内。

6.根据权利要求2所述的后处理系统，还包括：

传感器，其被配置成确定所述还原剂源内的还原剂的温度；

控制器，其与所述传感器、所述泵和所述加热机构是可通信的；

其中所述控制器被配置成基于由所述传感器确定的还原剂的温度来控制所述加热机构的温度和所述泵的速度中的至少一项。

7.根据权利要求6所述的后处理系统，其中，所述控制器被配置成基于由所述传感器确定的还原剂的温度和所述加热机构的温度来控制所述泵的速度。

8.根据权利要求6所述的后处理系统，其中，所述控制器被配置成基于由所述传感器确定的还原剂的温度和所述泵的速度来控制所述加热机构的温度。

9.根据权利要求2所述的后处理系统，其中，所述配给泵模块还包括：

室；

过滤器，其定位在所述室内；以及

帽，其被配置成选择性地封装所述室，使得所述过滤器定位在所述室内。

10.根据权利要求9所述的后处理系统，其中，所述配给泵模块还包括：

入口，其被配置成从所述还原剂源接收还原剂；

第一通道，其被配置成从所述入口接收还原剂并将还原剂提供到所述室；

第二通道，其被配置成从所述过滤器接收还原剂并将还原剂提供到所述泵；以及

出口，其被配置成从所述泵接收还原剂。

11.根据权利要求2所述的后处理系统，其中，所述加热机构包括一系列电阻加热元件。

12.根据权利要求1所述的后处理系统，其中，所述阀组件另外地在第三状态下是可操作的，在所述第三状态下，所述阀组件同时向所述接头和所述配给模块提供还原剂。

13.根据权利要求1所述的后处理系统，还包括：

空气源；和

空气泵，其被配置为从所述空气源接收空气并将空气提供到所述配给模块；

其中所述配给泵模块被配置成当被所述阀组件提供还原剂时，在向废气配给还原剂时使空气和还原剂混合。