[发明专利]一种NiPS3 有效
| 申请号： | 201811315224.6 | 申请日： | 2018-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN109052495B | 公开（公告）日： | 2021-01-12 |
| 发明（设计）人： | 苏陈良;李鑫哲;方漪芸;李瑛 | 申请（专利权）人： | 深圳大学 |
| 主分类号： | C01G53/00 | 分类号： | C01G53/00;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 深圳市创富知识产权代理有限公司 44367 | 代理人： | 曾敬 |
| 地址： | 518060 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 nips base sub | ||
1.一种NiPS3纳米片的制备方法，其中的电化学装置是以体相NiPS3晶体作为阴极，铂片作为阳极，四烷基四氟硼酸铵的有机溶液作为电解液；通过直流电源，给阴极施加一定大小的电压，体相NiPS3晶体在溶液中依次发生插层、膨胀、脱落，反应完成后，摇晃，得到剥离后的NiPS3纳米片溶液，通过离心，以及用有机溶剂洗涤，得到 NiPS3纳米片, 所述纳米片为二维超薄NiPS3纳米片，其厚度的数值范围在1 nm - 10 nm，单层的厚度范围为0.6 nm – 1.1nm，所述NiPS3纳米片尺寸大小为100 μm2-200 μm2。
2.根据权利要求1所述NiPS3纳米片的制备方法，其特征在于，所述四烷基四氟硼酸铵是四丁基四氟硼酸铵。
3.根据权利要求1所述NiPS3纳米片的制备方法，其特征在于，所述四烷基四氟硼酸铵的有机溶液为四烷基四氟硼酸铵的N,N二甲基甲酰胺溶液，或者为四烷基四氟硼酸铵的二甲基亚砜溶液。
4.根据权利要求1所述NiPS3纳米片的制备方法，其特征在于，所述有机溶剂为N,N二甲基甲酰胺或者二甲基亚砜。
5.根据权利要求1所述NiPS3纳米片的制备方法，其特征在于，所述四烷基四氟硼酸铵的有机溶液的摩尔浓度为0.01 mol/L至1.0 mol/L；或者所述四烷基四氟硼酸铵的有机溶液的摩尔浓度为0.05 mol/L至0.2 mol/L。
6.根据权利要求1所述NiPS3纳米片的制备方法，其特征在于，所述电压为-1 V至-10 V；或者所述电压为-2 V至-8 V。
7.一种用于制备权利要求1所述 NiPS3纳米片的电化学装置，其特征在于，所述电化学装置是以体相NiPS3晶体作为阴极，铂片作为阳极，四烷基四氟硼酸铵的有机溶液作为电解液，工作电压为-1 V至-10 V。
8.根据权利要求7所述的电化学装置，其特征在于，所述四烷基四氟硼酸铵的有机溶液的摩尔浓度为0.01mol/L至1.0 mol/L；所述四烷基四氟硼酸铵的有机溶液为四烷基四氟硼酸铵的N,N二甲基甲酰胺溶液，或者为四烷基四氟硼酸铵的二甲基亚砜溶液。
9.根据权利要求7所述的电化学装置，其特征在于，所述工作电压为-2 V至-8 V；所述四烷基四氟硼酸铵是四丁基氟硼酸铵。
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